[发明专利]X射线预曝光控制设备在审
| 申请号： | 201580062948.2 | 申请日： | 2015-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN106999127A | 公开（公告）日： | 2017-08-01 |
| 发明（设计）人： | K·埃哈德 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/00 | 分类号： | A61B6/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人： | 李光颖,王英 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种X射线预曝光控制设备(10)、X射线成像系统(1)、X射线成像方法和用于控制这样的设备的计算机程序单元以及存储有这样的计算机程序单元的计算机可读介质。X射线预曝光控制设备(10)包括对象探测单元(11)、对象模型单元(12)、接口单元(13)、处理单元(14)以及显示单元(15)。所述对象探测单元(11)被配置为探测要被曝光的对象(111)的对象数据。所述对象模型单元(12)被配置为提供对象模型并且基于对象数据将对象模型改善为改善的对象模型。所述接口单元(13)被配置为提供要被用于曝光对象的X射线单元(131)的设置数据。所述处理单元(14)被配置为基于改善的对象模型和所提供的设置数据来计算虚拟X射线投影(151)。所述显示单元(15)被配置为显示虚拟X射线投影(151)。 | ||
| 搜索关键词： | 射线 曝光 控制 设备 | ||
【主权项】：
一种X射线预曝光控制设备(10)，包括：对象探测单元(11)，对象模型单元(12)，接口单元(13)，处理单元(14)，以及显示单元(15)，其中，所述对象探测单元(11)被配置为探测要被曝光的对象(111)的对象数据，其中，所述对象模型单元(12)被配置为提供对象模型并且被配置为基于所述对象数据将所述对象模型改善为改善的对象模型，其中，所述接口单元(13)被配置为提供要被用于曝光所述对象的X射线单元(131)的设置数据，其中，所述处理单元(14)被配置为基于所述改善的对象模型和所提供的设置数据来计算虚拟X射线投影(151)，并且其中，所述显示单元(15)被配置为显示所述虚拟X射线投影(151)。
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