[发明专利]用于同位素产生系统的靶体及其使用方法在审
| 申请号： | 201580063111.X | 申请日： | 2015-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN107439057A | 公开（公告）日： | 2017-12-05 |
| 发明（设计）人： | X.张;M.A.弗伦特拉;P.A.扎沃什基;T.A.埃里克森 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | H05H6/00 | 分类号： | H05H6/00;G21G1/10 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人： | 郑浩,付曼 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明根据一个示例性实施例公开了一种用于同位素产生系统的靶系统的靶体。所述靶体包括靶室，所述靶室具有第一室和第二室，所述第一室具有第一表面区域，所述第二室具有大于所述第一表面区域的第二表面区域。所述第一室配置成容纳供带电粒子束轰击的液体靶介质。一部件连接到所述靶体并且配置成产生放射。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 同位素 产生 系统 及其 使用方法 | ||
【主权项】：
一种用于同位素产生系统的靶系统的靶体，所述靶体包括：靶室，所述包括具有第一表面区域的第一室和具有大于第二表面区域的第二室，所述第二表面区域大于所述第一表面区域；其中，所述第一室配置成容纳供带电粒子束轰击的液体靶介质。
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