[发明专利]银纳米线的制造方法、通过该方法得到的银纳米线及含有该银纳米线的墨有效

专利信息
申请号: 201580063555.3 申请日: 2015-12-18
公开(公告)号: CN107000065B 公开(公告)日: 2019-12-27
发明(设计)人: 内田博;原真尚;菅原笃;橘川守 申请(专利权)人: 昭和电工株式会社
主分类号: B22F9/24 分类号: B22F9/24;B22F1/00;C09D11/52;H01B1/00;H01B1/22;H01B5/00;H01B13/00
代理公司: 11247 北京市中咨律师事务所 代理人: 王磊;段承恩
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种制造后的银纳米线的清洗容易的银纳米线的制造方法、通过该方法得到的银纳米线及含有该银纳米线的墨。通过在重均分子量为100000~280000的聚合物及还原剂的存在下对银化合物进行加热来制造银纳米线,所述聚合物以单体单元的形式含有由R‑CONHR'(R为氢原子或碳原子数为1~3的烷基,R'为具有碳‑碳双键的碳原子数为2或3的烯基)表示的仲酰胺化合物。上述化合物的聚合物为选自聚(N‑乙烯基甲酰胺)、聚(N‑乙烯基乙酰胺)或聚(N‑乙烯基丙酰胺)中的1种以上的聚合物。
搜索关键词: 银纳米线 聚合物 碳原子数 制造 烷基 乙烯基甲酰胺 乙烯基乙酰胺 上述化合物 重均分子量 单体单元 银化合物 丙酰胺 还原剂 氢原子 碳双键 乙烯基 仲酰胺 烯基 自聚 加热 清洗
【主权项】:
1.一种银纳米线的制造方法,包含在重均分子量为100000~280000的聚合物及还原剂的存在下对银化合物进行加热的工序,所述聚合物以单体单元的形式含有由R-CONHR’表示的仲酰胺化合物,其中,R为氢原子或碳原子数为1~3的烷基,R’为具有碳-碳双键的碳原子数为2或3的烯基。/n
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