[发明专利]发射辐射的光电子半导体组件及其制造方法在审
申请号: | 201580066159.6 | 申请日: | 2015-12-01 |
公开(公告)号: | CN107004747A | 公开(公告)日: | 2017-08-01 |
发明(设计)人: | 托马斯·施瓦茨;弗兰克·辛格;斯特凡·伊莱克;迈克尔·齐茨尔斯佩格;布丽塔·格厄特茨 | 申请(专利权)人: | 欧司朗光电半导体有限公司 |
主分类号: | H01L33/50 | 分类号: | H01L33/50 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人: | 丁永凡,张春水 |
地址: | 德国雷*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 提出一种发射辐射的光电子半导体组件,其具有辐射透射面(S),在半导体组件运行中产生的光(R)穿过所述辐射透射面;第一阻挡层(1),所述第一阻挡层设置在辐射透射面(S)的上侧上并且在那里至少局部地与辐射透射面(S)直接接触;转换元件(3),所述转换元件设置在第一阻挡层(1)的背离辐射透射面(5)的上侧上;第二阻挡层(2),所述第二阻挡层设置在转换元件(3)的背离第一阻挡层(1)的上侧上和设置在第一阻挡层(1)的上侧上,其中第一阻挡层(1)和第二阻挡层(2)共同地完全包围转换元件(3),并且第一阻挡层(1)和第二阻挡层(2)局部地彼此直接接触。 | ||
搜索关键词: | 发射 辐射 光电子 半导体 组件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种发射辐射的光电子半导体组件,其具有:‑辐射透射面(S),在所述半导体组件运行中产生的光(R)穿过所述辐射透射面;‑第一阻挡层(1),所述第一阻挡层设置在所述辐射透射面(S)的上侧上并且在那里至少局部地与所述辐射透射面(S)直接接触;‑转换元件(3),所述转换元件设置在所述第一阻挡层(1)的背离所述辐射透射面(S)的上侧上;‑第二阻挡层(2),所述第二阻挡层设置在所述转换元件(3)的背离所述第一阻挡层(1)的上侧上和设置在所述第一阻挡层(1)的上侧上,其中‑所述第一阻挡层(1)和所述第二阻挡层(2)共同地完全包围所述转换元件(3),‑所述第一阻挡层(1)和所述第二阻挡层(2)局部地彼此直接接触,并且‑所述转换元件(3)包括转换波长的量子点或由转换波长的量子点构成。
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