[发明专利]光学体、光学膜粘合体及光学体的制造方法有效
| 申请号： | 201580070908.2 | 申请日： | 2015-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN107111002B | 公开（公告）日： | 2020-04-14 |
| 发明（设计）人： | 梶谷俊一 | 申请（专利权）人： | 迪睿合株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/118 | 分类号： | G02B1/118;B32B3/30;B32B7/023 |
| 代理公司： | 北京瑞盟知识产权代理有限公司 11300 | 代理人： | 刘昕 |
| 地址： | 日本国东京都品川区大崎*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种不使用保护膜而能够保护光学膜的凹凸结构，能够使光学膜薄膜化，并且提高操作性，抑制粘接剂层与光学膜的折射率差所导致的缺陷的产生，并且能够将光学膜更牢固地粘贴于被粘物的，新型且经改良的光学体、光学膜粘合体及光学体的制造方法。根据本发明的一个观点，提供一种光学体，其具有：光学膜，其具备在一侧表面所形成的第一凹凸结构和在另一侧表面所形成的第二凹凸结构；以及主膜，其覆盖第一凹凸结构，其中，第一凹凸结构的凹凸的平均周期在可见光波长以下，主膜具备：第三凹凸结构，其形成于与第一凹凸结构相对的表面，并且，具有第一凹凸结构的反转形状。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 粘合 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光学体，其特征在于，具有：光学膜，其具备在一侧表面所形成的第一凹凸结构和在另一侧表面所形成的第二凹凸结构；以及主膜，其覆盖所述第一凹凸结构，所述第一凹凸结构的凹凸的平均周期在可见光波长以下，所述主膜具备：第三凹凸结构，其形成于与所述第一凹凸结构相对的表面，并且，具有所述第一凹凸结构的反转形状。
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