[发明专利]具有底部密封布置的硅沉积反应器在审

专利信息
申请号: 201580071050.1 申请日: 2015-06-25
公开(公告)号: CN107406976A 公开(公告)日: 2017-11-28
发明(设计)人: 迈克尔·V·斯潘格勒;马修·J·米勒;杰弗里·A·汉森 申请(专利权)人: 瑞科硅公司
主分类号: C23C16/24 分类号: C23C16/24;C01B33/035;C23C16/442;B01J8/18;F27B15/06
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司11219 代理人: 刘慧,杨青
地址: 美国华*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明公开了用于制造高纯度硅包覆粒子的流化床反应器系统。容器具有外壳、所述外壳内向的绝缘层、所述外壳内向的同心内壳、和定位在所述内壳的内向并限定反应器室的同心衬里。所述内壳和衬里在它们的底部由O形环密封布置密封在一起,以防止所述反应器室中的气体进入所述内壳和所述衬里之间的空间。中央入口喷嘴在所述反应器室中产生竖直的气体羽流。
搜索关键词: 具有 底部 密封 布置 沉积 反应器
【主权项】:
硅沉积反应器系统,其包含:容器,其具有基底、顶盖、和在所述基底和所述顶盖之间大致竖直延伸的大致管状外壳;大致管状内壳,其位于所述外壳内向,所述内壳大致竖直延伸并由所述容器支撑;大致管状衬里,其位于所述内壳内向,所述衬里大致竖直延伸并由所述内壳支撑,所述衬里具有内表面,所述内表面至少部分限定适合于包含流化床中的许多硅粒子的室;至少一个喷嘴,其用于将气体注入所述室中;和至少一个出口,其用于从所述室除去气体。
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