[发明专利]用于扫描束注入机的束轮廓确定速度提升

摘要

本发明提供一种离子注入系统和方法，其中离子束被调节到第一工艺处方。沿扫描平面以第一频率扫描该离子束，限定第一扫描离子束。将束轮廓确定装置平移通过所述第一扫描离子束，并在所述第一扫描离子束的宽度的范围测量所述第一扫描离子束的一个或多个属性，由此限定与所述第一扫描离子束相关联的第一束轮廓。然后，沿扫描平面以第二频率扫描所述离子束，由此限定第二扫描离子束，其中，第二频率小于第一频率。至少部分地基于所述第一束轮廓确定与所述第二扫描离子束相关联的第二束轮廓。随后，经由所述第二扫描离子束将离子注入到工件中。

主权项

一种用于将离子注入到工件中的离子注入系统，包括：离子源，被配置为生成离子束；质量分析器，被配置为对离子束进行质量分析；束扫描器，被配置为沿扫描平面扫描所述离子束，由此限定扫描离子束，其中，所述束扫描器还被配置为以第一频率和第二频率扫描所述离子束，所述第一频率大于所述第二频率；端台，被配置为在所述束扫描器以所述第二频率扫描所述离子束时在与所述工件相关联的工件平面处接收所述扫描离子束；束轮廓确定装置，被配置为在以所述第一频率扫描所述离子束时沿所述扫描平面平移通过所述扫描离子束，其中，所述束轮廓确定装置还被配置为在所述平移的同时测量所述扫描离子束的一个或多个属性；以及控制器，被配置为在所述离子束以所述第二频率被扫描时至少部分基于在以所述第一频率扫描所述离子束时所述扫描离子束的所述一个或多个属性来确定所述扫描离子束的轮廓。