[发明专利]用于对大面积的基板覆层的CVD或PVD反应器

摘要

本发明涉及一种CVD或PVD覆层装置，具有壳体(1、2)和固定在壳体(1、2)上的具有进气机构(7)的组件(23)，所述进气机构具有具备排气口(8)的、在排气平面内延伸的排气面(7’)，所述组件(23)通过固定件(13、14)固定在壳体(1)的上部区段中的多个悬挂位置(6’)上，其中，设有调温件(9)，所述进气机构(7)借助所述调温件能够从基本上与壳体(1、2)温度相当的第一温度调温至与壳体温度不同的第二温度，其中，所述固定件(13、14)具有力传递件(26.1、26.2、26.3、26.4；27、28、29)，当由于调温导致组件(23)的尺寸发生变化时，所述力传递件发生变形或相对移动。所述组件包括固持装置(3)，所述进气机构(7)借助多个在整个水平的延伸面上分散布置的悬吊件(6)固定在所述固持装置(3)上，并且所述固持装置(3)通过所述力传递件(26.1、26.2、26.3、26.4；27、28、29)固定在所述壳体(1)上。