[发明专利]设备的校准在审
| 申请号： | 201580074563.8 | 申请日： | 2015-01-26 |
| 公开（公告）号： | CN107206697A | 公开（公告）日： | 2017-09-26 |
| 发明（设计）人： | 萨尔瓦多·桑切斯·里韦斯;大卫·拉米雷斯·穆埃拉;塞格欧·皮加德·阿拉门迪亚;波尔·马丁内斯·福尔诺斯 | 申请（专利权）人： | 惠普发展公司有限责任合伙企业 |
| 主分类号： | B29C64/393 | 分类号： | B29C64/393;B33Y50/02;G05B19/401 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司11018 | 代理人： | 康泉,宋志强 |
| 地址： | 美国德*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 描述了一种对用于生成三维物体的设备进行校准的方法，其中通过沉积构建材料并施加能量至构建材料以形成熔化的表面，来生成校准衬底；通过根据预定图案在校准表面上沉积试剂，来在校准表面上生成校准图案；并且测量校准图案的属性。 | ||
| 搜索关键词： | 设备 校准 | ||
【主权项】：
一种对用于生成三维物体的设备进行校准的方法，所述方法包括：通过沉积构建材料并且施加能量至所述构建材料以形成熔化的表面，来生成校准衬底；通过根据预定图案在所述校准衬底上沉积试剂，来在所述校准衬底上生成校准图案；并且测量所述校准图案的属性。
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