[发明专利]芳香族锍盐化合物、光产酸剂、抗蚀剂组合物、阳离子聚合引发剂和阳离子聚合性组合物在审
| 申请号： | 201580077938.6 | 申请日： | 2015-03-18 |
| 公开（公告）号： | CN107406403A | 公开（公告）日： | 2017-11-28 |
| 发明（设计）人： | 柳泽智史;户田瞳;滋野浩一;木村正树 | 申请（专利权）人： | 株式会社ADEKA |
| 主分类号： | C07D311/16 | 分类号： | C07D311/16;C08G59/68;G03F7/004 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277 | 代理人： | 刘新宇,李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供对基板的腐蚀性低、且光刻特性优异的对光产酸剂和阳离子聚合剂有用的芳香族锍盐化合物、使用其的光产酸剂、抗蚀剂组合物、阳离子聚合引发剂和阳离子聚合性组合物。一种芳香族锍盐化合物，如下述通式(I)所示(式(I)中，R1～R10各自独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、硝基、氰基、任选具有取代基的碳原子数1～18的烷基等，R11～R15各自独立地表示氢原子、任选具有取代基的碳原子数1～18的烷氧基等，R11～R15中的1个以上不是氢原子，X1‑表示1价的有机磺酸阴离子。)。 | ||
| 搜索关键词： | 芳香族 盐化 光产酸剂 抗蚀剂 组合 阳离子 聚合 引发 | ||
【主权项】：
一种芳香族锍盐化合物，其特征在于，如下述通式(I)所示，式(I)中，R1～R10各自独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、硝基、氰基、任选具有取代基的碳原子数1～18的烷基、任选具有取代基的碳原子数6～20的芳基、或者任选具有取代基的碳原子数7～20的芳基烷基，R1～R10表示的碳原子数1～18的烷基、碳原子数6～20的芳基和碳原子数7～20的芳基烷基中的亚甲基链任选被‑O‑、‑S‑、‑CO‑、‑CO‑O‑或O‑CO‑中断，R11～R15各自独立地表示氢原子、任选具有取代基的碳原子数1～18的烷氧基、任选具有取代基的碳原子数7～20的芳基烷氧基、任选具有取代基的碳原子数1～18的硫代烷基、任选具有取代基的碳原子数7～20的芳基硫代烷基、或者‑NRR’，R和R’各自独立地表示氢原子、碳原子数1～10的烷基或者碳原子数6～12的芳基，R11～R15中的1个以上不是氢原子，X1‑表示1价的有机磺酸阴离子。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社ADEKA，未经株式会社ADEKA许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201580077938.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
