[发明专利]用于自对准互连件、插塞和过孔的织物式图案化有效

专利信息
申请号: 201580080374.1 申请日: 2015-06-26
公开(公告)号: CN108012562B 公开(公告)日: 2022-03-01
发明(设计)人: K·林;R·L·布里斯托尔;A·M·迈尔斯 申请(专利权)人: 英特尔公司
主分类号: H01L21/033 分类号: H01L21/033;H01L21/3213;H01L21/768
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 陈松涛;韩宏
地址: 美国加*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明的实施例包括形成织物式图案化硬掩模的方法。在实施例中,以交替的图案在互连层的顶表面上方形成第一硬掩模和第二硬掩模。然后可以在第一硬掩模和第二硬掩模上方形成牺牲交叉光栅。在实施例中,去除第一硬掩模未被牺牲交叉光栅覆盖的部分,以形成第一开口,并将第三硬掩模沉积至第一开口中。实施例然后可以包括蚀刻通过第二硬掩模未被牺牲交叉光栅覆盖的部分以形成第二开口。可以利用第四硬掩模填充第二开口。根据实施例第一硬掩模、第二硬掩模、第三硬掩模和第四硬掩模相对于彼此具有蚀刻选择性。在实施例中,然后可以去除牺牲交叉光栅。
搜索关键词: 用于 对准 互连 织物 图案
【主权项】:
1.一种形成织物式图案化硬掩模的方法,包括:以交替的图案在互连层的顶表面上方形成第一硬掩模材料和第二硬掩模材料,其中,所述第一硬掩模材料和所述第二硬掩模材料相对于彼此具有蚀刻选择性;在所述第一硬掩模材料和所述第二硬掩模材料上方形成牺牲交叉光栅;蚀刻通过所述第一硬掩模材料未被所述牺牲交叉光栅覆盖的部分,以形成第一开口;将第三硬掩模材料沉积至所述第一开口中,其中,所述第三硬掩模材料相对于所述第一硬掩模材料和所述第二硬掩模材料具有蚀刻选择性;蚀刻通过所述第二硬掩模材料未被所述牺牲交叉光栅覆盖的部分,以形成第二开口;将第四硬掩模材料沉积至所述第二开口中,其中,所述第四硬掩模材料相对于所述第一硬掩模材料、所述第二硬掩模材料和所述第三硬掩模材料具有蚀刻选择性;以及去除所述牺牲交叉光栅。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于英特尔公司,未经英特尔公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201580080374.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top