[发明专利]成型模具、成型模具的制造方法和复制品的制造方法有效
| 申请号： | 201580082025.3 | 申请日： | 2015-09-03 |
| 公开（公告）号： | CN107848151B | 公开（公告）日： | 2020-03-03 |
| 发明（设计）人： | 山本和也;山本刚司 | 申请（专利权）人： | 纳卢克斯株式会社 |
| 主分类号： | B29C33/38 | 分类号： | B29C33/38;B29C33/42;G02B1/118;H01L21/302;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 庞东成;褚瑶杨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供一种成型模具的制造方法，该制造方法能够将广泛区域的间距的微细凹凸结构的形状调整为可令人充分满意的程度。一种成型模具的制造方法，其中，在反应性离子蚀刻装置内配置与六氟化硫反应的半导体基材或金属基材，导入六氟化硫与氧的混合气体，在等离子体干法蚀刻工艺中，使氧化物散布到该基材的表面，将该氧化物作为防蚀刻掩模，利用六氟化硫在该基材的表面进行蚀刻，由此在该基材的表面形成微细凹凸结构，之后，对该微细凹凸结构照射离子束以调整该微细凹凸结构的凸部的形状。 | ||
| 搜索关键词： | 成型 模具 制造 方法 复制品 | ||
【主权项】：
一种成型模具的制造方法，其包括：在反应性离子蚀刻装置内配置与六氟化硫反应的半导体基材或金属基材，导入六氟化硫与氧的混合气体，在等离子体干法蚀刻工艺中，使氧化物散布到该基材的表面，将该氧化物作为防蚀刻掩模，利用六氟化硫在该基材的表面进行蚀刻，由此在该基材的表面形成微细凹凸结构，之后，对该微细凹凸结构照射离子束以调整该微细凹凸结构的凸部的形状。
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