[发明专利]用于有机发光二极管制造的阴影掩模有效
| 申请号： | 201580083059.4 | 申请日： | 2015-09-15 |
| 公开（公告）号： | CN108026628B | 公开（公告）日： | 2020-09-25 |
| 发明（设计）人： | 方贵平;黄曦;布瑞恩·E.拉塞特;金时经;迪特尔·哈斯 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种阴影掩模(200,300,400,500)包括：框架(210)，由金属材料制成，该金属材料具有低于或等于约14微米/米/摄氏度的热膨胀系数；以及一或多个掩模图案(302,402,502)，耦接该框架(210)，该一或多个掩模图案包括第一金属材料与第二金属材料，该第二金属材料有别于该第一金属材料，且该一或多个掩模图案具有多个开口(215,318,345,425,435,545,552)，该多个开口形成于该一或多个掩模图案中。还提供了阴影掩模(200,300,400,500)和形成阴影掩模(200,300,400,500)的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 有机 发光二极管 制造 阴影 | ||
【主权项】：
1.一种阴影掩模，包括：框架，由金属材料制成，所述金属材料具有低于或等于约14微米/米/摄氏度的热膨胀系数；以及一或多个掩模图案，耦接所述框架，所述一或多个掩模图案包括第一金属材料与第二金属材料，所述第二金属材料有别于所述第一金属材料，且所述一或多个掩模图案具有多个开口，所述开口形成于所述一或多个掩模图案中。
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