[发明专利]用于可注射药物输送装置的剂量控制系统及相关使用方法

摘要

本发明涉及一种适用于可注射药物输送装置的剂量控制系统，该药物输送装置包括基本细长的药物输送主体，至少一种由主体容纳的可注射药物，主体具有远端和近端，其中剂量控制系统包括用于沿着三个轴(x，y，z)产生磁场的三维磁场产生装置；磁场检测装置，被配置为检测至少由三维磁场产生装置产生的磁场的变化；位移检测装置，被配置为测量药物输送装置的相对位移或相对移动；以及集成控制单元，其中集成控制单元连接到磁场检测装置，并且连接到位移检测装置，用于处理来自磁场检测装置和位移检测装置两者的信息；其中三维磁场产生装置被配置成实现围绕并且沿着药物输送装置的纵向轴线进行旋转同轴位移；磁场检测装置沿着纵向轴线定位；并且三维磁场产生装置位于药物输送装置主体的近端处或附近。

主权项

1.适用于可注射药物输送装置的剂量控制系统，所述药物输送装置包括基本上细长的药物输送主体、至少一种由所述主体容纳的可注射药物，所述主体具有远端和近端，其中所述剂量控制系统包括：-用于沿着三个轴(x，y，z)产生磁场的三维磁场产生装置；-磁场检测装置，被配置为检测至少由所述三维磁场产生装置产生的磁场的变化；-位移检测装置，被配置为测量药物输送装置的相对位移或相对移动，和-集成控制单元，其中集成控制单元连接到磁场检测装置和连接到位移检测装置，用于处理从磁场检测装置和位移检测装置两者接收到的信息；其中：-所述三维磁场产生装置被配置为实现围绕药物输送装置的纵向轴线并且沿着该纵向轴线的旋转同轴位移；-磁场检测装置沿着所述纵向轴线定位；和-所述三维磁场产生装置定位在药物输送装置的主体的近端处或附近。