[发明专利]真空处理装置和质谱分析仪

摘要

在负载锁定室与处理室之间移送对象物并且将负载锁定室和处理室分割开的动作所需要的时间被抑制得较短。真空处理装置(1)包括：处理室(3)，能够使其内部为真空状态；负载锁定室(2)，其与处理室(3)相连续地设置，能够在大气状态和真空状态之间切换；连通部(10)，其使处理室(3)与负载锁定室(2)连通；载置台(5)，其供作为处理对象的对象物载置，能够经由连通部(10)在处理室(3)与负载锁定室(2)之间移动；以及密封部(6)，其固定于载置台(5)，比连通部(10)的处理室(3)侧的开口大。

主权项

1.一种真空处理装置，其中，该真空处理装置包括：处理室，能够使其内部为真空状态；负载锁定室，其与所述处理室相连续地设置，能够在大气状态和真空状态之间切换；连通部，其使所述处理室与所述负载锁定室连通；载置台，其供作为处理对象的对象物载置，能够经由所述连通部在所述处理室与所述负载锁定室之间移动；密封部，其固定于所述载置台，比所述连通部的所述处理室侧的开口大；板状构件，其被水平设置于所述处理室的内壁的位于所述连通部的所述处理室侧的开口的上部的位置的转动轴轴支承，并且被设为能够在与所述内壁抵接的关闭状态和与所述内壁分开的打开状态之间切换；以及贯通口，其形成于所述板状构件，用于供所述载置台通过，所述贯通口的所述内壁侧的开口端形成于在所述板状构件处于关闭状态时与所述连通部的所述处理室侧的开口相对应的位置，并且所述贯通口形成为随着远离所述内壁而向斜下方倾斜，在所述载置台的固定有所述密封部的一侧的端部形成有倾斜部分，该倾斜部分随着向所述密封部靠近而以与所述贯通口相同的角度向斜下方倾斜，所述密封部比所述贯通口的与所述内壁相反的一侧的开口端大，在所述载置台在所述负载锁定室侧的状态下，所述载置台的所述倾斜部分成为配置在所述贯通口的内部的状态，并且所述密封部与所述板状构件抵接，所述板状构件为关闭状态。