[发明专利]冗余通孔互连结构有效

专利信息
申请号: 201580084769.9 申请日: 2015-12-23
公开(公告)号: CN108701669B 公开(公告)日: 2023-01-17
发明(设计)人: A·E·舒克曼;S·R·S·博雅帕提;M·D·穆萨利姆 申请(专利权)人: 英特尔公司
主分类号: H01L23/48 分类号: H01L23/48;H01L21/60
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 林金朝;王英
地址: 美国加*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 公开了用于高效率地提供通过诸如封装集成电路装置的芯的衬底等衬底的可靠连接的技术和机制。在实施例中,衬底中形成有通孔互连,其中绝缘体设置于衬底中的通孔互连之间。通孔互连相对于彼此的冗余配置允许对通孔互连中形成的孔隙有更高容限。在另一个实施例中,通孔互连在衬底一侧被短接在一起,并且还在衬底的相对侧被短接在一起。通孔互连之一形成的任何孔隙的总体积等于或大于六千立方微米。
搜索关键词: 冗余 互连 结构
【主权项】:
1.一种装置,包括:包括衬底的芯,所述衬底具有形成于其中的第一通孔和第二通孔,所述第一通孔和所述第二通孔均从所述衬底的第一侧延伸到所述衬底的第二侧,其中,绝缘体设置在所述衬底中的所述第一通孔和所述第二通孔之间;设置于所述第一通孔中的第一通孔互连;设置于所述第二通孔中的第二通孔互连;在所述第一侧提供所述第一通孔互连和所述第二通孔互连之间的短接的第一互连结构;以及在所述第二侧提供所述第一通孔互连和所述第二通孔互连之间的短接的第二互连结构;其中,所述第一通孔的总体积等于或小于两千万(20·106)立方微米(μm3),并且其中,所述第一通孔互连形成的任何孔隙的总体积等于或大于6·103μm3。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于英特尔公司,未经英特尔公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201580084769.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top