[发明专利]具有主动可调整的度量支撑单元的光学成像布置有效
| 申请号： | 201580085002.8 | 申请日： | 2015-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN108292099B | 公开（公告）日： | 2021-07-06 |
| 发明（设计）人： | S.赫姆巴赫;B.格珀特;J.库格勒 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞;邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光学成像布置(101)，包括光学投射系统(102)、支撑结构系统(111、112)以及控制装置(109)。光学投射系统(102)包括光学元件的组，光学元件的组由支撑结构系统(111、112)支撑且配置为在曝光过程中使用曝光光沿着曝光光路将掩模(103.1)的图案的像转印到基板(104.1)上。光学元件的组包括第一光学元件(106.6)和第二光学元件(106.2)，并且控制装置(109)包括传感器装置(110)和主动装置(113)。传感器装置(110)功能上关联于第一光学元件(106.6)且配置为捕捉机械扰动信息，机械扰动信息代表在至少一个自由度至全部六个自由度上作用在第一光学元件(106.6)上的机械扰动。控制装置(109)配置为作为机械扰动信息的函数来控制主动装置(113)，使得主动装置(113)作用在光学元件(106.6)中的至少一个上，以至少部分地校正在曝光过程期间由作用在第一光学元件(106.6)上的机械扰动造成的光学成像布置(101)的光学成像误差。主动装置(113)至少作用在第二光学元件(106.2)上，以至少部分地校正光学成像误差。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 主动 可调整 度量 支撑 单元 光学 成像 布置 | ||
【主权项】：
1.一种光学成像布置，包括：‑光学投射系统，‑支撑结构系统，以及‑控制装置，其中，‑所述光学投射系统包括光学元件的组，所述光学元件的组由所述支撑结构系统支撑且配置为在曝光过程中使用曝光光沿着曝光光路将掩模的图案的像转印到基板上；‑所述光学元件的组包括第一光学元件和第二光学元件；‑所述控制装置包括传感器装置和主动装置；‑所述传感器装置功能上与所述第一光学元件关联并且配置为捕捉机械扰动信息，所述机械扰动信息表示在至少一个自由度至全部六个自由度上作用在所述第一光学元件上的机械扰动；‑所述控制装置配置为作为所述机械扰动信息的函数来控制所述主动装置，使得所述主动装置作用在所述光学元件中的至少一个上，以至少部分地校正在所述曝光过程期间由作用在所述第一光学元件上的所述机械扰动造成的所述光学成像布置的光学成像误差；其特征在于，‑所述主动装置至少作用在所述第二光学元件上，以至少部分地校正所述光学成像误差。
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