[发明专利]膜形成设备有效
| 申请号： | 201580085470.5 | 申请日： | 2015-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN108474112B | 公开（公告）日： | 2020-06-19 |
| 发明（设计）人： | 安德里亚斯·索尔;安拉贝拉·霍夫曼 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C16/54 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 描述一种用于处理基板上的薄膜的设备。所述设备包括：真空腔室，所述真空腔室包括外壳、后壁和可移除闭合板；处理滚筒，所述处理滚筒在真空腔室内布置在后壁与可移除闭合板之间，所述处理滚筒至少部分地被处理区域包围；第一工艺分隔壁部分，所述第一工艺分隔壁部分附接到可移除闭合板；以及第二工艺分隔壁部分，所述第二工艺分隔壁部分附接到外壳或后壁；其中在可移除闭合板的闭合位置中，第一工艺分隔壁部分和第二工艺分隔壁部分共同提供工艺分隔壁，所述工艺分隔壁将处理区域分成相邻的处理区段。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 设备 | ||
【主权项】：
1.一种用于处理基板上的薄膜的设备，包括：真空腔室，包括外壳、后壁和可移除闭合板；处理滚筒，在所述真空腔室内布置在所述后壁与所述可移除闭合板之间，所述处理滚筒至少部分地被处理区域包围；第一工艺分隔壁部分，附接到所述可移除闭合板；和第二工艺分隔壁部分，附接到所述外壳或所述后壁，其中于所述可移除闭合板的闭合位置中，所述第一工艺分隔壁部分和所述第二工艺分隔壁部分共同提供工艺分隔壁，所述工艺分隔壁将所述处理区域分成相邻的处理区段。
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