[发明专利]真空镀膜前处理加工方法

摘要

本发明公开了一种真空镀膜前处理加工方法，包括：a、高亮镜面在精抛后通过超声波除胶处理；b、对步骤a中除胶处理后的高亮度镜面进行超声波除蜡处理；c、对步骤b中除蜡处理后的高亮度镜面进行表面活化处理；d、对步骤c中表面活化处理后的高亮度镜面进行超声波调和处理；e、对步骤d中调和处理后的高亮度镜面进行超声波除油处理；f、对步骤e中除油处理后的高亮度镜面进行超声波中和处理；g、对步骤f中中和处理后的高亮度镜面采用纯水进行漂洗；h、对步骤g中漂洗后的高亮度镜面进行烘干处理；该能够有效去除精抛后产生的纳米氧化膜，工序简单，有利于后续物理气相沉积处理。

主权项

1.真空镀膜前处理加工方法，其特征在于，包括如下步骤：a、除胶超声：高亮镜面在精抛后通过超声波除胶处理；b、除腊超声：对步骤a中除胶处理后的高亮度镜面进行超声波除蜡处理；c、表面活化：对步骤b中除蜡处理后的高亮度镜面进行表面活化处理；d、调和超声：对步骤c中表面活化处理后的高亮度镜面进行超声波调和处理；e、除油超声：对步骤d中调和处理后的高亮度镜面进行超声波除油处理；f、中和超声：对步骤e中除油处理后的高亮度镜面进行超声波中和处理；g、纯水漂洗：对步骤f中中和处理后的高亮度镜面采用纯水进行漂洗；h、烘干：对步骤g中漂洗后的高亮度镜面进行烘干处理；步骤c中采用的环境参数如下：超声波为4A；药水分别为KMnO₄、NaOH；浓度分别为100±10g/L、20±5g/L；药水补水量分别为2kg /24h 、0.6kg /24h ；温度为50±2℃；时间240±10s ；药水更换周期14天；步骤a中采用的环境参数如下：超声波为4A；药水为中性除胶剂；药水浓度为8％～10％；药水补水量为3.5L/24h ；温度为30±2℃；时间240±10s ；药水更换周期14天；所述中性除胶剂，按重量份计，包含以下原料：20～35份的2‑氨基‑2‑乙基‑1,3丙二醇、10～20份的烷基酚聚氧乙烯醚、5～10份的2甲基2氨基丙醇、25～35份的丙二醇单乙醚；步骤b中采用的环境参数如下：超声波为4A；药水为弱碱性除蜡剂；药水浓度为8％～10％；药水补水量为3L/24h ；温度为75±2℃；时间240±10s ；药水更换周期14天；所述弱碱性除蜡剂，按重量份计，包含以下原料：20～30份的脂肪酸甲酯聚氧乙烯醚、10～20份的嵌段聚氧乙烯聚氧丙烯醚、25～30份的椰油酸二乙醇酰胺、10～15份的有机分散剂。