[发明专利]显示基板及其制作方法、显示器件有效
申请号: | 201610003722.1 | 申请日: | 2016-01-04 |
公开(公告)号: | CN105446037B | 公开(公告)日: | 2019-01-22 |
发明(设计)人: | 曹占锋;高锦成;关峰;张斌;何晓龙;张伟;姚琪;李正亮 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/1362 | 分类号: | G02F1/1362 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 许静;黄灿 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及显示技术领域,公开了一种显示基板及其制作方法、显示器件。所述制作方法包括在黑矩阵的表面形成凹凸不平的结构,使得黑矩阵靠近显示侧的表面凹凸不平,在应用于显示器件上时,可以减少黑矩阵向显示侧反射的光线,降低显示面板的反射率,减小对显示画面对比度的影响,改善显示画面的质量。 | ||
搜索关键词: | 显示 及其 制作方法 器件 | ||
【主权项】:
1.一种显示基板的制作方法,包括形成黑矩阵的步骤,其特征在于,形成黑矩阵的步骤包括:在所述黑矩阵靠近显示侧的表面形成凹凸不平的结构;形成黑矩阵的步骤包括形成第一子层的步骤,所述第一子层的表面凹凸不平;形成黑矩阵的步骤还包括:在所述第一子层上形成第二子层,去除所述第一子层所在区域之外的第二子层,形成第二子层的图形,所述第二子层沿所述第一子层的表面延伸,且所述第二子层的表面形状与所述第一子层的表面形状相同,所述第二子层的材料为不透光的金属,形成所述第一子层的步骤包括:依次形成第一金属层、第二金属层和第三金属层,所述第三金属层靠近显示侧,所述第二金属层的电阻率小于所述第一金属层和第三金属层的电阻率;对所述第一金属层、第二金属层和第三金属层进行构图工艺,形成过渡层的图形,所述过渡层的图形与所述黑矩阵的图形一致;采用湿法刻蚀去除第一金属层和部分第二金属层,通过控制湿法刻蚀工艺的刻蚀速率来在所述第二金属层的表面形成凹凸不平的结构,由所述第一金属层和剩余的第二金属层形成所述第一子层;第一金属层和第三金属层的材料为Mo,第二金属层的材料为Al或Al的合金。
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