[发明专利]一种基于交叠多项式模型的垂测电离图反演方法

摘要

本发明公开了一种基于交叠多项式模型的垂测电离图反演方法，所述方法包括以下步骤：步骤A、实测数据预处理；步骤B、基于实测数据预处理的结果，使用交叠多项式模型计算E层剖面；步骤C、基于实测数据预处理结果和E层剖面，估计参数谷宽和谷深，并构建相应谷层参数剖面；步骤D、基于实测数据预处理结果和谷层剖面，使用交叠多项式模型计算F层剖面。本发明所公开的基于交叠多项式模型的垂测电离图反演方法，提出了基于交叠多项式模型思想的融合数据预处理和谷层剖面寻优的垂测电离图反演算法，可以有效提高电离层反演精度和稳定性。

主权项

1.一种基于交叠多项式模型的垂测电离图反演方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：步骤A、实测数据预处理，所述步骤A具体为：步骤A1、构建抛物模型的E层和谷层剖面，多项式模型的F1层和F2层剖面；步骤A2、基于建立的电离层模型，结合实测虚高数据，在剖面连续光滑的约束条件下，依据电离层模型计算虚高和实测虚高误差和最小准则，通过搜索、迭代的方法获得构建电离层模型的参数；步骤A3、采用确定参数的电离层模型对缺失实测数据进行外推补偿预处理，形成完整连续的虚高数据；步骤B、基于实测数据预处理的结果，使用交叠多项式模型计算E层剖面，所述步骤B具体包括：步骤B1、基于E层虚高数据预处理结果计算E层平均群折射指数：符号μ′ij用于表示在电波频率fi和等离子体频率fj处的群折射指数μ′，群折射指数μ′具有以下形式 μ ′ = G o μ o - - - ( 1 ) ]]>其中， μ o = 1 - X o - - - ( 2 ) ]]> X o = f N 2 / f 2 - - - ( 3 ) ]]> G o = μ o n o { 1 + X o tan 2 θ M 2 [ 1 + X o ( 1 + γμ o 4 ) 1 / 2 - 2 1 + ( 1 + γμ o 4 ) 1 / 2 ] } - - - ( 4 ) ]]> γ =

下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。 免登录下载普通用户下载升级VIP会员，免费下载

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国电子科技集团公司第二十二研究所，未经中国电子科技集团公司第二十二研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】

本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610004849.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。