[发明专利]一种高分散性光敏石墨烯及其制备方法有效
| 申请号： | 201610005660.8 | 申请日： | 2016-01-05 |
| 公开（公告）号： | CN105399091B | 公开（公告）日： | 2017-05-10 |
| 发明（设计）人： | 刘仁;董博文;袁妍;刘敬成;罗静;刘晓亚 | 申请（专利权）人： | 江南大学 |
| 主分类号： | C01B32/184 | 分类号： | C01B32/184;C01B32/194 |
| 代理公司： | 无锡华源专利商标事务所(普通合伙)32228 | 代理人： | 冯智文,聂启新 |
| 地址： | 214122 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高分散性光敏石墨烯，该光敏石墨烯的制备方法包括如下步骤(1)氧化；(2)氨基化；(3)还原；(4)半封端；(5)光敏化。本发明光敏石墨烯具有高分散性，本发明方法在解决石墨烯易团聚问题的同时，保护了光敏双键，并且兼具一定电学性能，可广泛应用于光固化材料领域。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 分散性 光敏 石墨 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种高分散性光敏石墨烯，其特征在于所述光敏石墨烯通过如下步骤制得：(1)氧化，采用改进的Hummers法对石墨烯粉进行氧化处理，制得氧化石墨烯；(2)氨基化，将步骤(1)制得的氧化石墨烯加入反应溶剂中，60℃下滴加3‑氨丙基三乙氧基硅烷，搅拌反应6～12h，随后洗涤、干燥，得到氨基化氧化石墨烯；(3)还原，将步骤(2)制得的氨基化氧化石墨烯分散还原溶剂中，并加入还原剂，80℃条件下搅拌反应12～48h，洗涤、干燥，制得氨基化石墨烯；(4)半封端，将异佛尔酮二异氰酸酯加入到反应溶剂中，升温50℃，滴加丙烯酸‑2‑羟乙酯、催化剂、阻聚剂的混合物，控制温度为50℃，搅拌反应，制得半封端异氟尔酮二异氰酸酯；(5)光敏化，将步骤(3)制得的氨基化石墨烯分散在反应溶剂中，加入步骤(4)制得的半封端异氟尔酮二异氰酸酯，10～40℃下，搅拌反应20～24h，洗涤、干燥，制得所述光敏石墨烯。
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