[发明专利]用于提供包括无Co自由层的磁结的方法和系统有效
| 申请号： | 201610005833.6 | 申请日： | 2016-01-05 |
| 公开（公告）号： | CN105762274B | 公开（公告）日： | 2020-03-27 |
| 发明（设计）人： | 唐学体;李将银;冯艮;达斯廷·威廉·埃里克森 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | H01L43/10 | 分类号： | H01L43/10;H01L43/02;H01L43/08;H01L27/22 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 韩明星;刘灿强 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了用于提供包括无Co自由层的磁结的方法和系统。描述了可用于磁装置的磁结以及用于提供磁结的方法。磁结包括自由层、非磁隔离层和参考层。自由层包括Fe和至少一种Fe合金中的至少一种。此外，自由层不包括Co。非磁隔离层与自由层邻接。非磁隔离层驻留在参考层和自由层之间。构造磁结使得当写入电流经过磁结时自由层在多个稳定磁状态之间是可切换的。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 提供 包括 co 自由 方法 系统 | ||
【主权项】：
一种位于基板上并能用在磁装置中的磁结，所述磁结包括：自由层，包括Fe和至少一种Fe合金中的至少一种，自由层不包括Co；非磁间隔层，与自由层邻接；以及参考层，非磁间隔层位于参考层和自由层之间；其中，磁结被构造成使得当写入电流经过磁结时自由层在多个稳定的磁状态之间是可切换的。
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