[发明专利]一种基板、基板制造方法、触摸屏和显示装置

摘要

本发明公开了一种基板、基板制造方法、触摸屏和显示装置，包括衬底基板，还包括设置于衬底基板上的增透减反膜，所述的增透减反膜包括第一密实均质层、纳米多孔层和第二密实均质层，所述增透减反膜各层的材料均为SiO2。光经过纳米多孔层时，经多次反射而聚焦透射出去，达到减反射增透的目的。第一密实均质层的设置可以增强纳米多孔层的沉积效率与结合力，避免高温干燥处理时纳米多孔层脱落。第二密实均质层可以防止纳米多孔层表面吸附水分和灰尘造成盖板玻璃雾度增大。同时增透减反膜因各层折射率不同，调整各层厚度进行光学匹配，从而达到消影的效果。

主权项

1.一种基板，其特征在于，包括衬底基板，还包括设置于衬底基板上的增透减反膜，所述的增透减反膜包括纳米多孔层；所述的纳米多孔层的材料为SiO2；所述的增透减反膜还包括设置在纳米多孔层和衬底基板间，并与纳米多孔层表面相接触的第一密实均质层；所述的第一密实均质层的材料为SiO2；所述的增透减反膜还包括设置在纳米多孔层远离衬底基板一侧并与纳米多孔层表面相接触的的第二密实均质层；所述的第二密实均质层的材料为SiO2；所述的衬底基板为玻璃基板，所述的纳米多孔层与其上下表面的两层密实均质层一起的综合折射率为n2，空气折射率为n1＝1，玻璃基板折射率为n3，折射率满足如下条件：且纳米多孔层的折射率在1.21～1.24之间；所述的纳米多孔层的厚度为d2，第一密实均质层的厚度为d1，第二密实均质层的厚度为d3，其中d1,d2,d3相互配合，使得光经第一密实均质层上表面反射后的光波与经过第二密实均质层下表面反射后的光波相位相反。