[发明专利]掩膜板组、彩膜基板及其制作方法、检测装置、显示装置有效
申请号: | 201610006525.5 | 申请日: | 2016-01-04 |
公开(公告)号: | CN105487333B | 公开(公告)日: | 2019-09-17 |
发明(设计)人: | 熊强;吴洪江;毕瑞琳;孙红雨;韩自力;彭元鸿;黎敏 | 申请(专利权)人: | 重庆京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/42 | 分类号: | G03F1/42;G09F9/30;G02F1/1335;G02F1/13 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 彭瑞欣;陈源 |
地址: | 400714 重庆市北碚区*** | 国省代码: | 重庆;50 |
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摘要: | 本发明提供一种掩膜板组、彩膜基板及其制作方法、检测装置、显示装置。所述掩膜板组用于制作彩膜基板,所述掩膜板组包括:第一掩膜板,所述第一掩膜板对应于每个所述标记区的位置均形成有多个黑矩阵第一标记掩膜图形,且距离最近的两个所述黑矩阵第一标记掩膜图形的中心间距不小于同一行中相邻两个所述子像素的中心间距的两倍;第二掩膜板,所述第二掩膜板对应于所述滤光区的位置形成有与其中一种颜色的多个子像素一一对应的多个色阻块掩膜图形,所述第二掩膜板对应于每个所述标记区的位置均形成有沿列方向排列的至少两个色阻标记掩膜图形。本发明提供的掩膜板组制作的彩膜基板用于检测时,检测的准确率能够提高。 | ||
搜索关键词: | 掩膜板组 彩膜基板 及其 制作方法 检测 装置 显示装置 | ||
【主权项】:
1.一种掩膜板组,用于制作彩膜基板,所述彩膜基板包括滤光区和多个标记区,所述滤光区被划分为多个像素单元,每个像素单元均包括沿行方向排列的多个不同颜色的子像素,其特征在于,所述掩膜板组包括:第一掩膜板,所述第一掩膜板对应于每个所述标记区的位置均形成有多个黑矩阵第一标记掩膜图形,且距离最近的两个所述黑矩阵第一标记掩膜图形的中心间距不小于同一行中相邻两个所述子像素的中心间距的两倍;在所述第一掩膜板的对应于任意一个所述标记区的位置,所述黑矩阵第一标记掩膜图形的个数等于所述像素单元内子像素的颜色种类数;第二掩膜板,所述第二掩膜板对应于所述滤光区的位置形成有与其中一种颜色的多个子像素一一对应的多个色阻块掩膜图形,所述第二掩膜板对应于每个所述标记区的位置均形成有沿列方向排列的至少两个色阻标记掩膜图形;当所述第一掩膜板与所述彩膜基板对正时,对应于同一个标记区的多个黑矩阵第一标记掩膜图形能够在该标记区形成多个第一投影,当所述第二掩膜板的色阻块掩膜图形依次与各种颜色的子像素对正时,对应于同一个标记区的多个色阻标记掩膜图形能够在该标记区形成多列第二投影,同一个标记区中,至少两个第一投影分别对应不同列的第二投影,且所述第一投影位于相应的第二投影的范围内。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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