[发明专利]掩膜板及其制作方法有效
申请号: | 201610007354.8 | 申请日: | 2016-01-06 |
公开(公告)号: | CN105425533B | 公开(公告)日: | 2019-10-22 |
发明(设计)人: | 吴春晖;蒋盛超;安予生;喻琨 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/48 | 分类号: | G03F1/48;G03F1/72 |
代理公司: | 北京博思佳知识产权代理有限公司 11415 | 代理人: | 林祥 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供了一种掩膜板及其制作方法,该掩膜板包括掩膜板本体,所述掩膜板本体包括透光区域和遮光区域,所述掩膜板还包括设置在所述掩膜板本体上的防划伤层。本发明提供的掩膜板,通过在掩膜板本体上设置防划伤层,在掩模板与待曝光的基板进行对位时,即使待曝光的基板上存在异物,通过该防划伤层可以起到对掩膜板本体的保护作用,从而防止对掩膜板本体造成损伤,避免影响所制作产品的良率。 | ||
搜索关键词: | 掩膜板 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
1.一种掩膜板,包括掩膜板本体,所述掩膜板本体包括透光区域和遮光区域,其特征在于,所述掩膜板还包括设置在所述掩膜板本体上的防划伤层,所述防划伤层包括自修复材料,所述自修复材料包括自修复微胶囊和催化剂;当所述自修复微胶囊的囊壁破裂时,所述自修复微胶囊的囊芯与所述催化剂接触,所述自修复微胶囊的囊芯在所述催化剂的作用下发生聚合反应从而实现自修复;所述自修复微胶囊的囊壁包括尿素‑甲醛树脂,所述自修复微胶囊的囊芯包括聚二甲基硅氧烷和乙烯类聚合物,所述催化剂包括催化剂铂。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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