[发明专利]一种阵列基板及其制备方法在审
申请号: | 201610015061.4 | 申请日: | 2016-01-11 |
公开(公告)号: | CN105470267A | 公开(公告)日: | 2016-04-06 |
发明(设计)人: | 张春倩;王超;薛景峰 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12;H01L21/77 |
代理公司: | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 李庆波 |
地址: | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种阵列基板及其制备方法。阵列基板包括基板,以及依次形成在基板上的缓冲层、第一遮光图案、钝化层、第一半导体图案、栅极绝缘层、第一栅极图案、层间绝缘层及两个第一源/漏电极图案。其中,设置第一通孔穿过层间绝缘层、栅极绝缘层、第一半导体图案以及钝化层,两个第一源/漏电极图案中的一个通过第一通孔与第一遮光图案电性连接;设置第二通孔穿过层间绝缘层、栅极绝缘层以及第一半导体图案,两个第一源/漏电极图案中的另一个通过第二通孔与第一半导体图案电性连接。通过这种方式,本发明复用第一遮光图案光罩,将第一遮光图案与第一源/漏电极图案相连,以增强薄膜晶体管的驱动能力,提高显示质量。 | ||
搜索关键词: | 一种 阵列 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种阵列基板,其特征在于,所述阵列基板包括基板以及依次形成在所述基板上的缓冲层、第一遮光图案、钝化层、第一半导体图案、栅极绝缘层、第一栅极图案、层间绝缘层及两个第一源/漏电极图案;其中,所述阵列基板设置有第一通孔和第二通孔,所述两个第一源/漏电极图案中的一个通过所述第一通孔与所述第一半导体图案和所述第一遮光图案电性连接;所述两个第一源/漏电极图案中的另一个通过所述第二通孔与所述第一半导体图案电性连接,且与所述第一遮光图案保持电性绝缘。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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