[发明专利]DRAM不良晶粒的回收再利用方法有效
申请号: | 201610015283.6 | 申请日: | 2016-01-08 |
公开(公告)号: | CN105655268B | 公开(公告)日: | 2018-03-27 |
发明(设计)人: | 黄曦;黄华 | 申请(专利权)人: | 沛顿科技(深圳)有限公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66;H01L21/67;H01L21/8242 |
代理公司: | 东莞市中正知识产权事务所(普通合伙)44231 | 代理人: | 徐康 |
地址: | 518000 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种DRAM不良晶粒的回收再利用方法,在晶圆测试时对基本存储单元功能测试,记录不良区域的分布情况,事先筛选相同不良类型Bin,在做封装时只挑选出对应类型的半容量晶粒,避免无用晶粒被封装。同时采用特殊的邦线方式(Wire Bonding),并修改自动测试设备测试程序对封装好的芯片颗粒进行针对性的测试。其优点是,成本低、兼容性强,同时,通过回收利用半容量芯片,可提高产品产出率,增加企业收益。减少了一半的封装成本的浪费,在测试时仅需要针对一种半容量模式进行测试,节省测试成本高达75%。 | ||
搜索关键词: | dram 不良 晶粒 回收 再利用 方法 | ||
【主权项】:
一种DRAM不良芯片的回收再利用方法,其特征在于包括如下步骤:1)在晶圆测试过程中,根据正常全容量测试过程出现失效的地址范围,对每颗芯片做出初步分类,并在晶圆对位图对每颗芯片做出标记;2)在芯片贴片时通过晶圆对位图将相同类型半容量的芯片抓取贴到同一个基板上,并将不同类别芯片分别放置;3)针对每种类型的半容量芯片,定制对应的专用邦线方式,让对应地址线在芯片内部强制连接到低电平或者高电平;所述专用邦线方式,对于不同的地址邦线修改方式可以产生左半好芯片(H1)、右半好芯片(H2)、上半好芯片(H5)、下半好芯片(H6)不同组合Bin的半容量芯片;对于左半好芯片,将上半好芯片的(A15)邦线点从其(A15)输入端改为直接接地VSS;右半好芯片则是(A15)接电压源VDD;对于Bin上半好芯片/Bin下半好芯片,则是将其(BA2)邦线点不再接输入端而直接接地VSS和电源VDD;4)包括对于左半好芯片/右半好芯片,将其(A15 pin)输入信号由原来的地址输入端(ADDRESS pin)调整为不连接端(NC pin);对于上半好芯片/下半好芯片则修改其(BA2)引脚的测试条件由原来的地址输入端(ADDRESS pin)重置为不连接端(NC pin),对测试向量(pattern)所访问的bank进行修改,屏蔽一半不会被访问的bank;5)完成封装后的芯片,通过定制测试程序完成最终芯片测试,筛选出真正半容量参数、功能、速度均达标的芯片作为最终成品。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于沛顿科技(深圳)有限公司,未经沛顿科技(深圳)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610015283.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:反应腔室及半导体加工设备
- 下一篇:嵌入式元件封装结构的制作方法
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造