[发明专利]一种部分氧化工艺烧嘴及其应用有效
| 申请号： | 201610017677.5 | 申请日： | 2016-01-12 |
| 公开（公告）号： | CN105731376B | 公开（公告）日： | 2018-10-02 |
| 发明（设计）人： | 代正华;王辅臣;于广锁;刘海峰;龚欣;王亦飞;梁钦锋;许建良;郭庆华;陈雪莉;李伟锋;王兴军;郭晓镭;赵辉;陆海峰;龚岩;刘霞;王立;李新宇 | 申请（专利权）人： | 华东理工大学 |
| 主分类号： | C01B3/36 | 分类号： | C01B3/36 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人： | 胡红芳 |
| 地址： | 200237 *** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公布了一种部分氧化工艺烧嘴及其应用，所述烧嘴主要由内到外依次设置的气化剂通道、辅助气化剂通道、燃料通道和保护燃料通道组成。本发明提出的部分氧化工艺烧嘴应用于气态烃转化炉中，可以保护喷嘴端面不受高温合成气的冲刷烧蚀，使得烧嘴形成的火焰温度低且分布均匀，高温火焰远离烧嘴端面，从而使喷嘴端面的温度显著降低，无需烧嘴冷却水即可对烧嘴起到保护作用，同时烧嘴法兰温度低。本发明提供的烧嘴具有结构简单、寿命长、适用范围广等优点，具有十分广阔的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 部分 氧化 工艺 及其 应用 | ||
【主权项】：
1.一种部分氧化工艺烧嘴，其特征在于，包括由内而外依次设置的气化剂通道（1）、辅助气化剂通道（2）、燃料通道（3）以及保护燃料通道（4）；所述保护燃料通道（4）由燃料通道（3）的外壁（5）与转化炉喷嘴筒体耐火砖内壁（6）构成；所述烧嘴用于气态烃转化炉中，保护所述喷嘴的端面不受高温合成气的冲刷烧蚀；进入气化剂通道（1）的气化剂选自氧气、氧气与水蒸气或二氧化碳的混合物；进入辅助气化剂通道（2）的气化剂为水蒸汽或二氧化碳；所述气化剂通道（1）的物流速度为40～150m/s，辅助气化剂通道（2）的物流速度为40～150m/s，燃料通道（3）的物流速度为40～150m/s。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华东理工大学，未经华东理工大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610017677.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：玻璃钢复合降噪板
- 下一篇：一种MEMS器件及其制备方法、电子装置
