[发明专利]一种大视场摆扫二维像移补偿双通道成像仪光学系统有效

专利信息
申请号: 201610019756.X 申请日: 2016-01-13
公开(公告)号: CN105511075B 公开(公告)日: 2017-10-13
发明(设计)人: 况耀武;舒嵘;何志平;亓洪兴;侯佳 申请(专利权)人: 中国科学院上海技术物理研究所
主分类号: G02B27/00 分类号: G02B27/00;G02B17/08
代理公司: 上海新天专利代理有限公司31213 代理人: 郭英
地址: 200083 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种大视场摆扫二维像移补偿双通道成像仪光学系统,包括前向像移补偿镜、离轴三反无焦望远镜、第二折转镜、横向像移补偿镜、第三折转镜、分色片、通道一成像镜组、通道一像面、通道二成像镜组和通道二像面。整个光路以光轴为对称轴近似呈轴对称排布可有效减小航空相机摆扫时的转动惯量,无焦望远镜采用离轴三反的设计可避免中心遮挡保证相机的空间分辨率,望远镜具有实的入瞳和出瞳可以放置二维像移补偿镜。本发明具有大视场大相对口径、光路转动惯量小、结构紧凑、加工装调技术成熟等优点,可用于无人机和飞机吊舱等平台的高分辨率面阵摆扫航空光学相机中。
搜索关键词: 一种 视场 二维 补偿 双通道 成像 光学系统
【主权项】:
一种大视场摆扫二维像移补偿双通道成像仪光学系统,包括前向像移补偿镜(2)、离轴三反无焦望远镜(3)、第二折转镜(4)、横向像移补偿镜(5)、第三折转镜(6)、分色片(7)、通道一成像镜组(8)、通道一像面(9)、通道二成像镜组(10)和通道二像面(11),其特征在于:所述的光学系统光路以离轴主镜光轴(3‑5)为对称轴呈近似轴对称分布,离轴三反无焦望远镜(3)中的次镜(3‑2)、第一折转镜(3‑3)和望远镜后的第二折转镜(4)位于光轴(3‑5)的下侧,离轴三反无焦望远镜(3)中三镜(3‑4)位于光轴(3‑5)的上侧,且前向像移补偿镜(2)、离轴三反无焦望远镜(3)和第二折转镜(4)相对光轴(3‑5)左右对称,通道一成像镜组(8)和通道二成像镜组(10)分别位于光轴(3‑5)左右两侧且安装面与光轴(3‑5)成一定角度使得光路相对光轴(3‑5)上下分布;所述的离轴三反无焦望远镜(3)采用具有中间像面的离轴三反无焦形式,其入瞳位于离轴主镜(3‑1)前方,出瞳位于第二折转镜(4)与分色片(7)之间,在入瞳和出瞳位置处分别放置前向像移补偿镜(2)和横向像移补偿镜(5),离轴三反无焦望远镜(3)的出瞳同时作为通道一成像镜组(8)和通道二成像镜组(10)的入瞳,通道一成像镜组(8)和通道二成像镜组(10)的出瞳位于最后一个光学面与像面之间以适应红外探测通道100%冷屏效率的要求;所述的通道一成像镜组(8)和通道二成像镜组(10)前续光路共用,地面目标辐射信号(1)先后经过前向像移补偿镜(2)和离轴三反无焦望远镜(3)后,出射的平行光束依次经第二折转镜(4)、横向像移补偿镜(5)和第三折转镜(6),由分色片(7)进行光谱分光,分光后的两个光谱通道分别由通道一成像镜组(8)和通道二成像镜组(10)成像在通道一像面(9)和通道二像面(11)上。
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