[发明专利]一种基于氟化锂/聚乙烯醇交替薄膜的有机半导体器件薄膜封装技术有效

专利信息
申请号: 201610021166.0 申请日: 2016-01-08
公开(公告)号: CN105514274B 公开(公告)日: 2019-10-01
发明(设计)人: 彭应全;丁思晗;温占伟;吕文理;王颖 申请(专利权)人: 中国计量学院
主分类号: H01L51/40 分类号: H01L51/40
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 310018 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 本发明公开了一种基于氟化锂/聚乙烯醇交替薄膜的有机半导体器件薄膜封装技术,其特征在于,首先制备氟化锂缓冲层(6),然后依次制备聚乙烯醇(701)/氟化锂(702)交替封装薄膜。本专利薄膜封装技术通过如下的步骤实现:①在有机半导体器件(5)之上采用真空热蒸发的方式沉积氟化锂缓冲层,其尺度适当,以使待封装有机半导体器件的电极(2和4)露在外面,而其有机半导体活性层(3)被完全封装在里面;②在氟化锂缓冲层上用旋涂法制备聚乙烯醇封装层;③进行干燥处理;④在聚乙烯醇封装层上采用真空热蒸发的方式沉积氟化锂封装层;⑤重复上述步骤②‑④,直至在氟化锂封装层上再制备第(N‑1)层的聚乙烯醇/氟化锂交替薄膜(NO);⑥在200℃温度下对封装器件加热2小时,对聚乙烯醇进行交联。
搜索关键词: 一种 基于 氟化 聚乙烯醇 交替 薄膜 有机 半导体器件 封装 技术
【主权项】:
1.一种基于氟化锂/聚乙烯醇交替薄膜的有机半导体器件薄膜封装方法,其特征在于,首先制备氟化锂缓冲层,然后依次制备聚乙烯醇封装层和氟化锂封装层;其中氟化锂缓冲层覆盖于有机光电子器件之上,第一聚乙烯醇封装层覆盖于氟化锂缓冲层之上,第一氟化锂封装层覆盖于第一聚乙烯醇封装层之上,氟化锂封装层和聚乙烯醇封装层不断交替重叠至第N氟化锂封装层,N为大于等于1的整数;制备方法包括以下步骤:①在有机半导体器件之上采用真空热蒸发的方式沉积氟化锂缓冲层,其尺度适当,以使待封装有机半导体器件的电极露在外面,而其有机半导体活性层被完全封装在里面;②在氟化锂缓冲层上用旋涂法制备聚乙烯醇封装层;③进行干燥处理;④在聚乙烯醇封装层上采用真空热蒸发的方式沉积氟化锂封装层;⑤重复上述步骤②‑④,直至在氟化锂封装层上再制备(N‑1)层的聚乙烯醇/氟化锂交替薄膜;⑥在200℃温度下对封装器件加热2小时,对聚乙烯醇进行交联。
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