[发明专利]刷片清洗机在审

专利信息
申请号: 201610024763.9 申请日: 2016-01-15
公开(公告)号: CN105609448A 公开(公告)日: 2016-05-25
发明(设计)人: 林楠;赵晓亮;付永旭 申请(专利权)人: 上海华虹宏力半导体制造有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;B08B1/04;B08B3/02
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 丁纪铁
地址: 201203 上海市浦东*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种刷片清洗机,用于清洗硅片,具有多个清洗单元,每个清洗单元包含:多个片刷;多个喷嘴,包含正面高压水洗喷嘴、正面喷淋水洗喷嘴、背面喷淋水洗喷嘴、边缘高压水洗喷嘴;正面刷背面刷分别位于硅片两面且与硅片接触,对硅片表面产生清洁作用;硅片翻转装置,用于翻转硅片的正反面;发光光源;光量接收单元,与光源分别位于硅片直径方向的两侧,光接收单元接收光源发出的可见光;光量分析单元,接收光接收单元的光量信息;片刷高度分析单元,通过分析光量分析单元的光量信息数据,产生相应的控制数据;驱动步进单元,接收片刷高度分析单元的控制数据,驱动片刷的高度,从而保证片刷与硅片之间始终保持良好的接触。
搜索关键词: 清洗
【主权项】:
一种刷片清洗机,用于清洗硅片,其特征在于:具有多个清洗单元,每个清洗单元包含:多个片刷,包含正面刷、背面刷;多个喷嘴,包含正面高压水洗喷嘴、正面喷淋水洗喷嘴、背面喷淋水洗喷嘴、边缘高压水洗喷嘴;正面刷背面刷分别位于硅片两面且与硅片接触,硅片旋转使片刷与硅片之间产生相对运动,从而片刷对硅片表面产生清洁作用;硅片翻转装置,用于翻转硅片的正反面;光源,发出可见光;光接收单元,与光源分别位于硅片直径方向的两侧,光接收单元接收光源发出的可见光;光量分析单元,接收光接收单元的光量信息;片刷高度分析单元,通过分析光量分析单元的光量信息数据,产生相应的控制数据;驱动步进单元,接收片刷高度分析单元的控制数据,驱动片刷的高度,从而保证片刷与硅片的接触状态。
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