[发明专利]一种Sb2Te3热电材料薄膜湿法刻蚀方法

摘要

本发明公开了一种Sb2Te3热电材料薄膜湿法刻蚀方法，包括以下步骤在玻璃基片上用磁控溅射的方法镀上一层Sb2Te3热电材料薄膜；采用激光对所制Sb2Te3热电材料薄膜进行直写式激光曝光热作用；采用刻蚀液对激光热作用的薄膜进行选择性湿法刻蚀。本发明的湿法刻蚀方法，具有操作简单、成本低廉、刻蚀速率可控、刻蚀精度高等优点。该湿法刻蚀方法可以用于微纳结构制造，热传感器，热电制冷器件，太阳能电池，相变存储器等领域中的Sb2Te3微纳图形结构加工工艺，促进该热电薄膜在上述领域的应用。

主权项

一种Sb2Te3热电材料薄膜湿法刻蚀方法，其特征在于该方法包括以下步骤：a)在玻璃基片上用磁控溅射的方法镀上一层Sb2Te3热电材料薄膜；b)利用激光器对所述的Sb2Te3热电材料薄膜进行直写式曝光热作用；c)采用刻蚀液对激光曝光热作用后的Sb2Te3热电材料薄膜进行湿法刻蚀，将经过激光热作用的区域腐蚀去除，留下激光未作用的区域。