[发明专利]晶片抛光用抛光垫及抛光垫的自吸附方法在审
| 申请号： | 201610040622.6 | 申请日： | 2016-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN105500186A | 公开（公告）日： | 2016-04-20 |
| 发明（设计）人： | 夏秋良 | 申请（专利权）人： | 苏州新美光纳米科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/34 | 分类号： | B24B37/34;B24B37/04 |
| 代理公司： | 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 | 代理人： | 曹祖良;张涛 |
| 地址： | 215123 江苏省苏州市苏州工*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种抛光垫及吸附方法，尤其是一种晶片抛光用抛光垫及抛光垫的自吸附方法，属于化学机械抛光的技术领域。按照本发明提供的技术方案，所述晶片抛光用抛光垫，包括抛光垫体；其特征是：所述抛光垫体上设置具有吸附能力的吸附体，抛光垫体能通过吸附体与抛光大盘固定连接。本发明结构紧凑，实现抛光垫体与抛光大盘的有效连接固定，更换方便，有效减少对抛光大盘的损伤概率，提高抛光效率，适应范围广，安全可靠。 | ||
| 搜索关键词： | 晶片 抛光 吸附 方法 | ||
【主权项】：
一种晶片抛光用抛光垫，包括抛光垫体（2）；其特征是：所述抛光垫体（2）上设置具有吸附能力的吸附体，抛光垫体（2）能通过吸附体与抛光大盘（1）固定连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州新美光纳米科技有限公司，未经苏州新美光纳米科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610040622.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
