[发明专利]一种研磨液颗粒特性的耗散粒子动力学模拟方法在审

专利信息
申请号: 201610047943.9 申请日: 2016-01-25
公开(公告)号: CN105550474A 公开(公告)日: 2016-05-04
发明(设计)人: 李俊烨;杨兆军;乔泽民;张心明;吴庆堂;李学光;许颖;徐成宇 申请(专利权)人: 长春理工大学
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 130022 吉林省*** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 发明涉及一种研磨液颗粒特性的耗散粒子动力学模拟方法,具体步骤如下:(1)建立初始结构;(2)优化体系;(3)耗散粒子动力学仿真模拟设置;(4)耗散粒子动力学模拟结果分析;(5)三种不同磨粒晶胞模拟结果分析。本发明选取了碳化硅、三氧化二铝、氮化硼三种常用的磨粒晶胞团簇模型进行DPD仿真模拟,通过建立模型、优化及仿真得到其温度、压力及原子坐标张量及压力差异系数等的变化趋势,并且通过对比三种磨粒模型,分析其介观形态进而对宏观性能进行研究,从中选取更适合实验的磨粒流加工的磨料,最后得到碳化硅磨粒压力及温度变化都较均匀,选取碳化硅颗粒进行下一步仿真模拟的磨粒,为之后进行的磨粒流抛光实验奠定了理论基础。
搜索关键词: 一种 研磨 颗粒 特性 耗散 粒子 动力学 模拟 方法
【主权项】:
一种研磨液颗粒特性的耗散粒子动力学模拟方法,其特征在于:具体步骤如下:(1)建立初始结构:运行Material Studio软件,新建一个Project命名为晶胞;打开新的文档;工具栏选择Sketch Atom工具绘制一个晶胞,点击Clean工具修正得到合理的几何构像;选择菜单栏Modules上的Amorphous Cell,在下列列表中选取Construction,打开Amorphous Cell Construction对话框;点击Add将碳化硅原子添加到体系中,单价Constituent molecules栏中Number下的数字,设为100,温度选择为295K,Cell type选Periodic cell,其密度设置为3.22;设置完成后,得到碳化硅晶胞团簇模型;(2)优化体系:得到其碳化硅粒子模型后,通过选用Discover模块中的Minimizer对其进行优化,打开Discover Minimizer对话框相关设置,然后点击Minimize按钮开始优化;优化结束之后,会在Project Explorer中创建新目录Sketch 1Disco Min,当任务完成之后,最小化的结构会被存放在这个新目录之下;(3)耗散粒子动力学仿真模拟设置:通过以上模型建立及优化,进行DPD模拟分析;选取DPD Calculation对话框,在Setup设置栏下选取运行模拟步数20000步,时间步长为0.05,模拟时长为1000;在Output periods中设置Frame every为1000步长,Coordinates every为1frames以及Restart file every为10000步;通过以上模型建立进行无量纲化计算,采用DPD模拟方法,使系统达到平衡态,因传统DPD方法中保守力权函数具有排斥性,故当颗粒达到平衡态后,粒子均匀分布在整个区域,应用保守力势函数及改进的积分算法,当经验系数为0.65时继续展开DPD模拟;(4)耗散粒子动力学模拟结果分析:通过DPD模拟后,得到其压力、温度变化曲线、原子坐标下的压力张量图及压力差异系数曲线;在对碳化硅颗粒进行模拟的过程中,模拟20000步时的压力状态呈递减趋势,压力值从最初的24.5的状态逐渐减小,在0至50时,此时压力递减最为剧烈,加速度曲线明显,从24.5的状态递减至22.8,DPD颗粒呈现出一定的受压形态;从50至100模拟过程中,压力维持22.6的受力,此刻逐渐趋于稳定状态,碳化硅DPD磨粒也逐渐呈现稳定的形态;同样在碳化硅DPD颗粒模拟过程中,分析温度的变化趋势,初始温度选定1.3KT,在进行初始模拟的过程中,从0至10模拟中,温度从1.3KT大幅度降至1.05KT,温度也呈现出加速下滑状态,此后从10至100模拟之中,碳化硅DPD粒子逐渐稳定至1.0KT,DPD粒子也逐渐趋于稳定;通过对其压力张量分析,在X方向上,压力张量最初维持在22.65,经过原子单元的变化,呈上下波动状态,最高为22.70,最低为22.60,基本维持不变;而在Y方向上,压力张量呈现出剧烈的运动状态,在最初的原子坐标下,由22.7状态急剧下滑到22.6,并且在3.5个单元的原子坐标状态下,达到最低值为22.5,其后维持上下波动幅度减小,维持在22.6;而在Z方向上,随着原子坐标浮动,压力张量也呈现出集聚变化的形态,由最初的22.8开始,在达到顶峰值22.9后,也在3.5个单元的原子坐标下,急剧下滑至22.5,并且在其后状态中,再次呈现急剧上升状态;随着原子单元的增加,DPD粒子的压力单元由最初的‑0.08增长到0状态,在其后开始下降至最低值‑0.12,通过原子单元增加,达到顶峰值0.08,并稳定了两个坐标后,开始呈递减趋势,又达到最初的状态,在整个变化过程中,呈现不稳定的状态;经过以上模拟,碳化硅晶格模型形态不断变化,经过20000步模拟的压力、张量等的波动,各参数数值逐渐趋于稳定,最终得到碳化硅晶胞团簇模型无定形体系;(5)三种不同磨粒晶胞模拟结果分析:通过对碳化硅晶胞团簇模型的建立,对其团簇模型特性进行分析之后,对于分析其介观尺度内的性能有了很好的研究,从而更好的反映其宏观性能;选取磨粒流加工中的磨粒还有:三氧化二铝及氮化硼;三氧化二铝粉末呈白色状,常用磨粒粒径有2.5μm、7μm、14μm、28μm、120μm和150μm,其对工件磨削效果较好,能有效去除小孔周边毛刺及倒圆角;氮化硼磨粒是一种白色松散粉末,常用磨粒粒径有3.5μm、7μm、10μm、14μm和40μm,它的硬度较大,高于碳化硅粉末硬度,其切削能力强;进行同样的参数设置后,进行DPD仿真分析,通过其压力及温度趋势,结合碳化硅磨粒晶胞团簇模型的特性分析,进行三种磨粒的晶胞团簇模型数据对比;通过晶胞团簇模型建立及仿真参数设置后,对三种模型进行DPD仿真分析,得出结果。
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