[发明专利]半导体封装结构及其制造方法在审
申请号: | 201610051823.6 | 申请日: | 2016-01-26 |
公开(公告)号: | CN105870088A | 公开(公告)日: | 2016-08-17 |
发明(设计)人: | 胡玉山 | 申请(专利权)人: | 东琳精密股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/485 | 分类号: | H01L23/485;H01L21/60 |
代理公司: | 上海一平知识产权代理有限公司 31266 | 代理人: | 须一平;居瓅 |
地址: | 中国台湾苗*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明提出一半导体封装结构及其制造方法,该半导体封装结构包含一芯片、一金属阻障层、一介电层、一第一金属籽晶层及一第二金属籽晶层。芯片具有一顶面、多个连接垫及一保护层,连接垫及保护层设置于顶面上,而保护层部分地覆盖连接垫;金属阻障层设置于各连接垫上;介电层设置于保护层及金属阻障层上,且具有多个贯穿槽,以使金属阻障层从介电层暴露出;第一金属籽晶层设置于介电层及暴露出的金属阻障层上;第二金属籽晶层设置于第一金属籽晶层上。藉此,金属阻障层可有效避免芯片的连接垫于制造过程中受到损害。 | ||
搜索关键词: | 半导体 封装 结构 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种半导体封装结构,包含:一芯片,具有一顶面、多个连接垫及一保护层,所述连接垫及该保护层设置于该顶面上,而该保护层部分地覆盖所述连接垫;一金属阻障层,设置于各该连接垫上;一第一介电层,设置于该保护层及该金属阻障层上,且具有多个贯穿槽,以使该金属阻障层从该第一介电层暴露出;一第一金属籽晶层,设置于该第一介电层及暴露出的该金属阻障层上;以及一第二金属籽晶层,设置于该第一金属籽晶层上。
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