[发明专利]检测光刻机上晶圆边缘图形失像的方法在审
| 申请号： | 201610064110.3 | 申请日： | 2016-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN105549335A | 公开（公告）日： | 2016-05-04 |
| 发明（设计）人： | 李伟峰;顾以理;王雷 | 申请（专利权）人： | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 栾美洁 |
| 地址： | 201203 上海市浦东*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种检测光刻机上晶圆边缘图形失像的方法，其中在光刻机上利用一块具有若干规则排列的单一规则图形的光刻掩膜版对几枚平整度很好的晶圆进行曝光，然后在光学显微镜下检查晶圆边缘(主要表现为色差)，并判断该晶圆边缘是否有图形失像(defocus)的现象；如果有图形失像的现象，可以大概判断影响的大小以及所在位置，还可以进一步在SEM下检查defocus的严重性。本发明利用该检测方法可以快速准确全面地了解光刻机在晶圆上的作业效果，评估晶圆在光刻机上可能发生的边缘图形失像问题，并可以作为一个改进光刻机上的工艺制造能力的参数。 | ||
| 搜索关键词： | 检测 光刻 机上晶圆 边缘 图形 方法 | ||
【主权项】：
一种检测光刻机上晶圆边缘图形失像的方法，其特征在于，包括如下步骤：第1步，制造一块光刻掩模版，所述光刻掩模版具有若干规则排列的单一规则图形；第2步，在光刻机上利用所述光刻掩模版曝光若干枚晶圆；第3步，在光学显微镜下检查晶圆边缘并判断边缘是否有图形失像的情况，如出现图形失像的情况，判断图形失像影响的大小及位置。
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