[发明专利]一种烧结NdFeB磁体表面高耐蚀复合涂层的制备方法

摘要

本发明公开了一种烧结NdFeB磁体表面高耐蚀复合涂层的制备方法，其特征在于：对烧结NdFeB磁体进行镀膜前处理、炉内前处理，然后通过磁控溅射的方式沉积Zn薄膜，再通过真空蒸镀的方式沉积Al薄膜，继续重复沉积Zn薄膜和Al薄膜，即完成。本发明将磁控溅射Zn薄膜工艺和真空蒸镀Al薄膜工艺相结合，金属Zn与Al之间能很好地匹配，Zn/Al复合薄膜之间的结合力很高；因此，通过在NdFeB基体上交替沉积Zn薄膜和Al薄膜，能够显著提高Al薄膜与基体的结合力，而且Zn薄膜能够有效地打断铝膜的柱状晶结构生长，从而阻断了腐蚀液渗透到达基体的快速腐蚀通道，明显改善NdFeB磁体的耐腐蚀性能。

主权项

1.一种烧结NdFeB磁体表面高耐蚀复合涂层的制备方法，其特征在于包括以下步骤：步骤一、对烧结NdFeB磁体进行镀膜前处理，所述镀膜前处理的方法为酸洗、喷砂或抛光；步骤二、对经步骤一处理后的烧结NdFeB磁体进行炉内前处理，所述炉内前处理的工艺过程包括：将经步骤一处理后的烧结NdFeB磁体装入离子镀膜机内的网笼中，采用循环氩离子轰击工艺对烧结NdFeB磁体进行轰击，保持真空室真空度为3～10Pa、Ar2流量为130～180sccm，轰击30～50min；步骤三、通过磁控溅射的方式在烧结NdFeB磁体表面沉积Zn薄膜，工艺条件为：保持真空室真空度为0.1～0.3Pa，Ar2流量为50～100sccm，偏压为120～170V，磁控溅射电流为12～16A，磁控溅射30～60min；步骤四、通过真空蒸镀的方式在步骤三沉积的Zn薄膜表面再沉积Al薄膜，工艺条件为：保持真空室真空度为2×10‑3Pa～7×10‑3Pa，蒸发电流2400～2800A，真空蒸镀20～30min；步骤五、重复步骤三、步骤四1～2次。