[发明专利]一种对HMX晶体形貌进行修复/修饰的方法在审
| 申请号： | 201610070704.5 | 申请日： | 2016-02-02 |
| 公开（公告）号： | CN105732531A | 公开（公告）日： | 2016-07-06 |
| 发明（设计）人： | 郭学永;张静元;焦清介;张朴;崔超;卢佳骥;张洪垒;李航 | 申请（专利权）人： | 北京理工大学 |
| 主分类号： | C07D257/02 | 分类号： | C07D257/02 |
| 代理公司： | 北京思创毕升专利事务所 11218 | 代理人： | 韦庆文 |
| 地址： | 100081 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种对HMX晶体形貌进行修复/修饰的方法，该方法包括：在搅拌条件下，使HMX晶体与溶剂‑反溶剂重结晶法制得的HMX重结晶母液或其稀释液进行混合。本发明的方法能够制备圆滑的HMX晶体，该晶体中HMX含量≥99.9％，晶体密度≥1.90g/cm3，通过仪器观察其微观结构可见，其外观无尖锐棱角，晶体短长轴比≥0.8。因此，由本发明的方法制备的HMX晶体具有流散性好、感度低等特点。而且，本发明的方法反应条件温和，并且使用的是结晶母液或其稀释液，具有制备简单以及成本低廉的特点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 hmx 晶体 形貌 进行 修复 修饰 方法 | ||
【主权项】：
一种对HMX晶体形貌进行修复/修饰的方法，其特征在于，该方法包括：在搅拌条件下，使HMX晶体与溶剂‑反溶剂重结晶法制得的HMX重结晶母液或其稀释液进行混合。
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