[发明专利]一种调控红色PS胶体晶体膜饱和度的方法

摘要

本发明涉及一种调控红色PS胶体晶体膜饱和度的方法，属于光子晶体结构色制备技术领域。取平均粒径为440±10nm的PS微球母液，稀释为PS微球浓度为0.1wt-0.5wt％的乳液，置于玻璃器皿中超声分散。将超声清洗过的基片垂直固定在分散的PS乳液中，放入烘箱中缓慢干燥。采用蒸镀仪在组装好的PS胶体晶体膜表面镀厚度为5nm-25nm的碳膜，使其在光子禁带的反射率增强，而对禁带以外波长的反射率降低，吸收了杂散光。通过对碳膜厚度的定量控制来改变光子禁带的反射率和吸收率，从而实现对红色PS胶体晶体膜饱和度的调控。

主权项

一种调控红色PS胶体晶体膜饱和度的方法，其特征在于，包括如下步骤：(1)采用乳液聚合法制备平均粒径为440±10nm的PS微球母液，以去离子水为溶剂，将其稀释为PS微球浓度为0.1‑0.5wt％的乳液，置于玻璃器皿中超声分散30‑60min；(2)用去离子水清洗基片，然后分别在乙醇和去离子水中超声清洗30‑90min后烘干备用，将清洗过的基片垂直固定在已超声分散的PS乳液中，放入烘箱中9‑12h，烘干温度为40℃‑65℃，缓慢烘干得到组装好的PS胶体晶体膜；(3)将从烘箱中取出的PS胶体晶体膜放入蒸镀仪中镀碳膜，设置镀膜电流为60mA，通过碳丝的粗细来调整碳膜的厚度，使PS胶体晶体膜表面的碳膜厚度在5‑25nm之间。