[发明专利]用于在EUV光刻中监测焦点的方法有效
| 申请号： | 201610081242.7 | 申请日： | 2016-02-05 |
| 公开（公告）号： | CN105892229B | 公开（公告）日： | 2019-09-13 |
| 发明（设计）人： | T·A·布鲁纳;M·伯克哈特 | 申请（专利权）人： | 国际商业机器公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F1/44 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 于静;张亚非 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及一种使用包含具有辅助特征图案的EUV掩模来获得用于在EUV光刻中曝光光致抗蚀剂的最优焦点的方法。本发明也涉及一种具有用于在EUV光刻中监测焦点的特定焦点测试目标的EUV掩模，和一种通过设计特定焦点测试目标而制造该EUV掩模的方法。EUV掩模包含重复图案，其中重复图案具有两个不同节距，即，第一节距和第二节距，并且在主要特征之间包含辅助特征。因为所述两个不同节距具有不同的焦点偏移，在光栅的线宽之间的所述差提供了校准曲线，校正曲线为焦点的测量。用于监测焦点的方法为使用利用在两个光栅之间的线宽差校准的预确定焦点位置的焦点位置而进行EUV曝光。本发明的用于监测焦点的EUV掩模均适用于测试和产品掩模。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 euv 光刻 监测 焦点 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于在EUV光刻中监测焦点的方法，所述方法包括：提供包含光致抗蚀剂层的衬底；使用EUV辐射曝光，并且用包括包含第一节距和第二节距的两个不同节距的重复图案的掩模，在不同焦点位置处来印刷所述光致抗蚀剂层，其中，所述两个不同节距中的至少一个的所述重复图案包含辅助特征；确定在所述掩模中的所述第一节距的所述重复图案之下的所述光致抗蚀剂层的印刷的线宽与所述不同焦点位置之间的第一关系；确定在所述掩模中的所述第二节距的所述重复图案之下的所述光致抗蚀剂层的印刷的线宽与所述不同焦点位置之间的第二关系；建立包含在所述不同焦点位置处的所述两个不同节距的印刷的线宽差的校准曲线；以及使用在所述校准曲线上被预确定为焦点位置的焦点位置，对光致抗蚀剂或其它光敏感材料进行EUV曝光。
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