[发明专利]等离子体生成设备在审
| 申请号： | 201610086116.0 | 申请日： | 2016-02-15 |
| 公开（公告）号： | CN105898977A | 公开（公告）日： | 2016-08-24 |
| 发明（设计）人： | 斯蒂芬·R·伯吉斯;安东尼·P·威尔比;C·L·威迪克斯;I·蒙克里夫;P·登斯利 | 申请（专利权）人： | SPTS科技有限公司 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46;H01L21/67;H01J37/317 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人： | 胡春光;张颖玲 |
| 地址： | 英国*** | 国省代码： | 英国;GB |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 根据本发明提供了一种用于对衬底进行等离子体处理的等离子体生成设备，包括腔室、等离子体产生装置、衬底支撑件和法拉第屏障，腔室具有内表面，等离子体产生装置用于在腔室内产生感应耦合等离子体，衬底支撑件用于在等离子体处理期间支撑衬底，法拉第屏障布置在所述腔室内以用于对内表面的至少一部分进行屏蔽以免受由等离子体处理从衬底移除的材料的影响，其中，等离子体产生装置包括天线和RF电源，RF电源用于将RF电能供应至具有极性的天线，该极性在小于或等于1000Hz的频率下进行交替变化。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 生成 设备 | ||
【主权项】：
一种用于对衬底进行等离子体处理的等离子体生成设备，包括：腔室，其具有内表面；等离子体产生装置，其用于在所述腔室内产生感应耦合等离子体；衬底支撑件，其用于在等离子体处理期间支撑所述衬底；以及法拉第屏障，其布置在所述腔室内以用于对所述内表面的至少一部分进行屏蔽以免受由所述等离子体处理从衬底移除的材料的影响；其中，所述等离子体产生装置包括天线和RF电源，所述RF电源用于将RF电能供应至具有极性的天线，所述极性在小于或等于1000Hz的频率下进行交替变化。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于SPTS科技有限公司，未经SPTS科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610086116.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：烧结机石墨自润滑侧密封装置
- 下一篇：圆筒式离心干燥机
