[发明专利]一种自饱和吸收调Q钇铝石榴石激光晶体及其生长方法在审
申请号: | 201610087488.5 | 申请日: | 2016-02-16 |
公开(公告)号: | CN105696073A | 公开(公告)日: | 2016-06-22 |
发明(设计)人: | 张庆礼;林东晖;刘文鹏;孙贵花;罗建乔;彭方;殷绍唐;窦仁勤 | 申请(专利权)人: | 中科九曜科技有限公司 |
主分类号: | C30B29/28 | 分类号: | C30B29/28;C30B15/00;C30B11/00;C30B17/00;H01S3/16 |
代理公司: | 合肥市长远专利代理事务所(普通合伙) 34119 | 代理人: | 程笃庆;黄乐瑜 |
地址: | 231202 安徽省合*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开一种自饱和吸收调Q钇铝石榴石激光晶体,具有以下化学式组成:V5xNd3yY3(1-y)Al5(1-x)O12,其中0<x≤0.02,0<y≤0.015。本发明还公开上述自饱和吸收调Q钇铝石榴石激光晶体生长方法,包括如下步骤:将含钒化合物、含钕化合物、含钇化合物、含铝化合物混合均匀后,进行压制得到化学式为V5xNd3yY3(1-y)Al5(1-x)O12的晶体生长初始原料;将化学式为V5xNd3yY3(1-y)Al5(1-x)O12的晶体生长初始原料加热至熔融状态得到晶体生长熔体,然后采用熔体法晶体生长方法进行生长得到自饱和吸收调Q钇铝石榴石激光晶体。本发明具有调Q和激光增益双重功能。 | ||
搜索关键词: | 一种 饱和 吸收 石榴石 激光 晶体 及其 生长 方法 | ||
【主权项】:
一种自饱和吸收调Q钇铝石榴石激光晶体,其特征在于,具有以下化学式组成:V5xNd3yY3(1‑y)Al5(1‑x)O12,其中0<x≤0.02,0<y≤0.015。
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