[发明专利]一种显示器件及其制备方法有效
| 申请号： | 201610091519.4 | 申请日： | 2016-02-18 |
| 公开（公告）号： | CN107093371B | 公开（公告）日： | 2019-09-24 |
| 发明（设计）人： | 周群飞;饶桥兵;项小鑫 | 申请（专利权）人： | 蓝思科技（长沙）有限公司 |
| 主分类号： | G09F9/30 | 分类号： | G09F9/30 |
| 代理公司： | 长沙七源专利代理事务所(普通合伙) 43214 | 代理人： | 欧颖;吴婷 |
| 地址： | 410311 湖南省*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 一种显示器件，包括盖板、以及盖板底面涂覆的光学调整层、及遮蔽层，光学调整层包括叠加组合在一起的氮化钼子层与氧化硅子层，其中氮化钼子层位于盖板一侧，氧化硅层位于显示屏一侧。本发明通过光学调整层中的氮化钼子层与氧化硅子层叠加组合，熄屏时正面光线反射率大于60％，点亮时背面光线透射率大于50％，完全满足显示屏点亮时作为正常显示器件使用，熄屏时作为镜子使用，将遮蔽层涂印在光学调整层的氧化硅子层上，遮蔽层与显示屏中心显示区域从视觉上看起来成为一体，使镜面更宽，使用更方便。本显示器件的制备方法工艺简单，可适用于大批量生产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 显示 器件 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种显示器件，其特征在于，在厚度方向依次包括盖板、盖板底面涂覆的光学调整层以及显示屏，所述光学调整层包括叠加组合在一起的氮化钼子层与氧化硅子层，其中氮化钼子层位于盖板一侧，氧化硅子层位于显示屏一侧；所述光学调整层中，氮化钼子层的厚度为2～15nm，氧化硅子层的厚度为60～100nm；所述显示器件还包括位于盖板与显示屏之间的用于遮住显示屏边框区域的遮蔽层，遮蔽层涂印于盖板底面，第一层光学调整层的氮化钼子层整面涂覆在印有遮蔽层的盖板底面上；或者遮蔽层涂印于最后一层光学调整层的氧化硅子层上；当遮蔽层涂印于盖板底面时，所述氮化钼子层的涂覆厚度不包括遮蔽层的厚度，即不包括嵌入遮蔽层所围成的中心显示区域部分的厚度。
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