[发明专利]一种修饰氧化铟锡阳极有效

专利信息
申请号: 201610095917.3 申请日: 2013-01-11
公开(公告)号: CN105895824B 公开(公告)日: 2017-12-26
发明(设计)人: 不公告发明人 申请(专利权)人: 陈居
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/56;H01L51/44;H01L51/48
代理公司: 北京卓特专利代理事务所(普通合伙)11572 代理人: 段宇
地址: 350208 福建省*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明实施例公开了一种修饰氧化铟锡阳极,包括氧化铟锡阳极和修饰层,所述氧化铟锡阳极包括玻璃基板和设置在所述玻璃基板表面的氧化铟锡薄膜,所述修饰层设置在所述氧化铟锡薄膜表面,所述修饰层为所述氧化铟锡薄膜表面的铟与氟成键形成的以In‑F形式存在的含氟偶极层,所述含氟偶极层的氟元素的质量百分含量为11~20%,锡元素与铟元素的质量百分含量比为0.004~0.017。含氟偶极层的存在使阳极表面功函得到了提高。
搜索关键词: 一种 修饰 氧化 阳极
【主权项】:
一种修饰氧化铟锡阳极,包括氧化铟锡阳极和修饰层,所述氧化铟锡阳极包括玻璃基板和设置在所述玻璃基板表面的氧化铟锡薄膜,所述修饰层设置在所述氧化铟锡薄膜表面,其特征在于,所述修饰层为所述氧化铟锡薄膜表面的铟与氟成键形成的以In‑F形式存在的含氟偶极层,所述含氟偶极层的氟元素的质量百分含量为11~20%,锡元素与铟元素的质量百分含量比为0.004~0.017;所述修饰氧化铟锡阳极采用如下步骤制备而成:提供洁净的氧化铟锡阳极;所述氧化铟锡阳极包括玻璃基板和设置在所述玻璃基板表面的氧化铟锡薄膜;将所述氧化铟锡阳极浸入浓度为0.2~2mol/L的含氟有机酸水溶液中,于5~20℃下浸泡0.5~2分钟后,取出,干燥;将干燥后的所述氧化铟锡阳极置于等离子体设备中,通入含氟气体,使等离子体设备内的气体压力为10Pa~60Pa,调整射频功率为40w~100w,进行等离子体处理5~10分钟,得到修饰氧化铟锡阳极,所述修饰氧化铟锡阳极的表面具有修饰层,所述修饰层为所述氧化铟锡薄膜表面的铟与氟成键形成的以In‑F形式存在的含氟偶极层。
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