[发明专利]检查设备和方法在审
| 申请号： | 201610099812.5 | 申请日： | 2013-01-31 |
| 公开（公告）号： | CN105549341A | 公开（公告）日： | 2016-05-04 |
| 发明（设计）人： | A·登博夫 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;吕世磊 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种光谱散射仪检测从目标光栅上的照射光斑衍射的零阶或高阶辐射。设备形成并且检测了零阶(反射)辐射的光谱，并且单独地形成并检测高阶衍射辐射的光谱。使用对称相位光栅形成每个光谱，以便于形成并且检测对称光谱对。成对的光谱可以平均以获得具有减小的焦点敏感性的单个光谱。比较两个光谱可以产生用于改进后续光刻步骤中的高度测量的信息。目标光栅被倾斜定向以使得零阶和高阶辐射在不同平面中从光斑发出。两个散射仪可以同时操作，从而从不同倾斜方向照射目标。径向透射滤光片减小了光斑中的旁波瓣并且减小了产品交叉串扰。 | ||
| 搜索关键词： | 检查 设备 方法 | ||
【主权项】：
一种光学设备，包括用于将辐射束聚焦在目标结构上的光斑处的照射光学器件，其中所述照射光学器件包括设置在光瞳面处或附近的滤光片，所述滤光片使得所述束的传输损耗随着距所述束的光轴的径向距离而增大。
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