[发明专利]一种微纳PSS制备用软膜及其制造方法在审
| 申请号： | 201610103730.3 | 申请日： | 2016-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN105742414A | 公开（公告）日： | 2016-07-06 |
| 发明（设计）人： | 张伟;孙智江 | 申请（专利权）人： | 海迪科(南通)光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00;H01L33/12 |
| 代理公司： | 北京一格知识产权代理事务所(普通合伙) 11316 | 代理人： | 滑春生 |
| 地址： | 226500 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种微纳PSS制备用软膜制造方法，步骤为：首先，用Si或SiC基板制备硬膜，然后根据制备的硬膜利用树脂注塑成型制备出软膜半成品，在软膜半成品上镀一层厚度在150nm以上的高反射率金属膜，然后采用干法ICP刻蚀去除需曝光处的金属膜，从而形成所需的软膜；还涉及一种利用上述微纳PSS制备用软膜制造方法制得的软膜，包括软膜主体、梳齿组及高反射金属层，且高反射金属层覆盖住相邻两个梳齿所形成的凹槽。本发明的优点在于：利用本发明制备的软膜在进行曝光处理时，软膜与光刻胶无需接触即可进行曝光，有效的表面了光刻胶对软膜的污染，提高了软膜的使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 pss 制备 用软膜 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种微纳PSS制备用软膜制造方法，其特征在于：包括下述步骤：a）硬膜制备：首先，根据所需图形采用Si或SiC基板制备出硬膜；b）软膜制备：根据制备的硬膜利用树脂注塑成型制备出软膜半成品；c）镀金属膜：在软膜半成品上镀一层厚度在150nm以上的高反射率金属膜；d) 去金属膜：采用干法ICP刻蚀去除需曝光处的金属膜，从而形成所需的软膜。
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