[发明专利]制造高分辨率有机薄膜图案的方法有效

专利信息
申请号: 201610115813.4 申请日: 2011-01-05
公开(公告)号: CN105742495B 公开(公告)日: 2020-06-05
发明(设计)人: 徐旼撤;李信斗;崔原硕;金珉会 申请(专利权)人: 三星显示有限公司;首尔大学校产学协力团
主分类号: H01L51/00 分类号: H01L51/00;H01L27/32;H01L51/05;H01L51/56
代理公司: 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人: 郭艳芳;康泉
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种制造高分辨率有机薄膜图案的方法,该方法包括:在基板上形成第一有机层;通过选择性地向所述第一有机层照射光能来选择性地去除所述第一有机层,并将所述第一有机层的剩余部分形成为牺牲层;在所述基板以及所述牺牲层的整个表面上形成第二有机层;以及通过利用溶剂去除所述牺牲层来剥离形成在所述牺牲层上的第二有机层,并将剩余的第二有机层形成为第二有机层图案。
搜索关键词: 制造 高分辨率 有机 薄膜 图案 方法
【主权项】:
一种形成有机薄膜图案的方法,该方法包括:在基板上形成第一有机层;通过选择性地向所述第一有机层照射光能来选择性地去除所述第一有机层的一部分,并将所述第一有机层的剩余部分形成为牺牲层;在所述基板和所述牺牲层的整个表面上形成第二有机层,所述第二有机层利用沉积方法形成;以及通过利用溶剂去除所述牺牲层来剥离形成在所述牺牲层上的第二有机层,并将剩余的第二有机层形成为第二有机层图案;其中在形成第一有机层时,所述第一有机层包括氟基聚合物,所述氟基聚合物是下面化学式1或2所表示的化合物:化学式1其中n是50与1000之间的整数,化学式2其中m是50与1000之间的整数,并且n是50与1000之间的整数;其中在选择性地去除所述第一有机层时,使用激光烧蚀方法向布置在所述第一有机层上的具有预定图案的掩膜照射受激准分子激光;其中在剥离所述第二有机层时,所述溶剂是氟基溶剂,其中在形成所述第二有机层时,所述第二有机层由包含布置在所述基板上且位于第一电极与第二电极之间的有机发光材料的有机发光器件的有机发光材料形成,形成不同颜色的多层有机发光材料以便发出白光。
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