[发明专利]具有立方钙钛矿结构的半导体材料及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201610121585.1 申请日: 2016-02-29
公开(公告)号: CN105742507B 公开(公告)日: 2018-02-13
发明(设计)人: 米启兮;史志方;张毅 申请(专利权)人: 上海科技大学
主分类号: H01L51/46 分类号: H01L51/46;H01L51/48;C30B29/54;C30B7/08;C30B7/14
代理公司: 上海申汇专利代理有限公司31001 代理人: 翁若莹
地址: 201210 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了一种具有立方钙钛矿结构的半导体材料,其特征在于,其化学式为MA1‑xEAxPbI3,其中,MA+为甲铵阳离子,EA+为乙铵阳离子,所述的x的取值范围为0.09‑0.15和0.20‑0.24,不包含0.15和0.20;或者,其化学式为MA1‑yDMAyPbI3,其中,MA+为甲铵阳离子,DMA+为二甲铵阳离子,y的取值范围为0.10‑0.15。本发明的具有立方钙钛矿结构的半导体材料在室温下以完美立方结构稳定存在,这对于三碘合铅酸类钙钛矿材料是首次报道。
搜索关键词: 具有 立方 钙钛矿 结构 半导体材料 及其 制备 方法
【主权项】:
一种具有立方钙钛矿结构的半导体材料,其特征在于,其化学式为MA1‑xEAxPbI3,其中,MA+为甲铵阳离子,EA+为乙铵阳离子,所述的x的取值范围为0.09‑0.15和0.20‑0.24,不包含0.15和0.20;或者,其化学式为MA1‑yDMAyPbI3,其中,MA+为甲铵阳离子,DMA+为二甲铵阳离子,y的取值范围为0.10‑0.15。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海科技大学,未经上海科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610121585.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top