[发明专利]一种TiAlN/MoN多层膜复合涂层及其制备方法在审
| 申请号： | 201610130391.8 | 申请日： | 2016-03-08 |
| 公开（公告）号： | CN105779948A | 公开（公告）日： | 2016-07-20 |
| 发明（设计）人： | 周溯源;韩滨;付德君 | 申请（专利权）人： | 武汉大学苏州研究院 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/06;C23C14/02 |
| 代理公司： | 武汉华旭知识产权事务所 42214 | 代理人： | 刘天钰 |
| 地址： | 215000 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种具有高硬度和优良抗氧化性能以及自润滑性的并且涂层与基体之间表现出良好的结合强度的TiAlN/MoN多层膜复合涂层，所述的TiAlN/MoN多层膜复合涂层由下至上依次为金属结合层、过渡层以及复合多层，其中金属结合层沉积在基体上，金属结合层为TiAl或Mo，所述过渡层为TiAlN或MoN，所述复合多层为TiAlN和MoN交替沉积，其中单层TiAlN的厚度为5～50纳米，单层MoN的厚度为5～50纳米，复合多层的总厚度为1～12微米。本发明还提供了上述TiAlN/MoN多层膜复合涂层的制备方法，其工艺简单、设备常规、生产成本低。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 tialn mon 多层 复合 涂层 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种TiAlN/MoN多层膜复合涂层，沉积于基体上，其特征在于：所述的TiAlN/MoN多层膜复合涂层由下至上依次为金属结合层、过渡层以及复合多层，其中金属结合层沉积在基体上，金属结合层为TiAl或Mo，其厚度为50～100纳米，所述过渡层为TiAlN或MoN，其厚度为50～500纳米，所述复合多层为TiAlN和MoN交替沉积，其中单层TiAlN的厚度为5～50纳米，单层TiAlN中Al元素的原子百分数为30％～66％，单层MoN的厚度为5～50纳米，复合多层的总厚度为1～12微米。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉大学苏州研究院，未经武汉大学苏州研究院许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610130391.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
